国立研究所、研究活動を行う世界の大規模な主要大学、そして防衛、航空宇宙、分析機器の製造などの産業では、必要な真空レベルを達成するためにさまざまな真空装置が使用されています。これらの組織の多くが、高度に特化された真空ポンプ、機器、およびシステムを求めてライボルトを頼っています。
UHVとは、圧力が約10−9 mbar(10-7 Pa)を下回ることを特徴とする真空状態です。X線光電子分光法(XPS)、オージェ電子分光法(AES)、二次イオン質量分析法(SIMS)、電界放射顕微鏡(FEM)など、多くの表面分析技術で表面汚染を低減するために、超高真空条件が必要とされています。
分子線エピタキシー法(MBE)や原子層堆積(ALD)など、純度に関する厳しい要件がある薄膜の成長や準備に関する技術も、UHV条件に依存しています。
粒子加速器や重力波検出器のような研究アプリケーションでは、超高真空条件は主にビームとガスの相互作用を減らし、外部環境からの望ましくない摂動を制限するのに役立ちます。このような真空レベルでは、特殊な材料とポンプ原理を使用する必要があります。
当社は、意欲的な超高真空アプリケーションに使用される高度な真空ソリューションを幅広く提供しています。当社のコンポーネント、システムソリューション、アフターサービスは、世界中の主要な研究センターでその効果を発揮しています。
自動化ベースのオプションは以下の通り
100 | 200 | 300 | 400
到達圧力
< 5 x 10-10 mbar
多段式ルーツポンプ | スクロールポンプ | ターボ分子ポンプ(TMP) | クライオポンプ |
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ECODRY Plus メリット: |
SCROLLVAC plus メリット: |
TURBOVAC IXおよびMAG W IP TURBOLAB メリット: |
COOLVAC ICLおよびBL メリット: |
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イオンゲッターポンプとコントローラー | チタンサブリメーションポンプ | NEGポンプ | UHVハードウェア、バルブ、継手 |
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TITanおよびDIGITEL メリット: |
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