超高真空應用
由政府實驗室、學術單位和私人產業所進行之最複雜研究的先決條件，都是超高真空 (UHV) 條件。
國家實驗室、大型全球研究大學，以及國防、航太或分析儀器製造等產業，均採用各種真空設備來達到所需的真空度。這些組織當中有許多仰賴 Leybold 提供的特定用途真空幫浦、儀器和系統。
UHV 為真空狀態，壓力低於 10−9 mbar (或 10-7 Pa)。許多表面分析技術都必須有超高真空條件，才能減少表面污染。例如 X 射線光電子能譜法 (XPS)、歐傑電子能譜術 (AES)、二次離子質譜法 (SIMS) 或場放射顯微術 (FEM)。
薄膜的生長和準備技術必須滿足純度的嚴苛要求，例如分子束磊晶法 (MBE) 和原子層沉積法 (ALD)，也同樣仰賴 UHV 條件。
在像是粒子加速器或重力波偵測器等研究應用中，超高真空條件主要用於減少射束/氣體的交互作用，並限制外部環境中不希望發生的擾動。這些真空等級需要使用特殊材質與抽氣原理。
我們提供各式各樣的先進真空解決方案，適合志向遠大的 UHV 應用。我們的元件、系統解決方案和售後服務，於全球主要研究中心在在展現出實際效益。
M-UHV 平台
模組化超高真空實驗平台
自動化選項包括
100 | 200 | 300 | 400
極限真空壓力
< 5 x 10-10 mbar
- 基板溫度變化範圍為 100K 至 1000K
- 精確的溫度測量
- 運用模組化概念加上 UHV 傳送站設備，輕鬆組裝叢集系統
- 各種 UHV 實驗工具的隨插即用配置
- 納入標記式試樣架
- 相關應用
- 相關產品
- 優點
| 多段魯式幫浦 | 渦捲式幫浦 | 渦輪分子幫浦 (TMP) | 冷凍幫浦 |
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ECODRY Plus 優點： |
SCROLLVAC plus 優點： |
TURBOVAC IX & MAG W IP TURBOLAB 優點： |
COOLVAC ICL & BL 優點： |
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| 離子吸附幫浦 & 控制器 | 鈦昇華幫浦 | NEG 幫浦 | UHV 硬體、閥、接頭 |
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TITan & DIGITEL 優點： |
優點： |
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優點： |
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