卷對卷鍍膜真空解決方案
彈性材料薄膜鍍膜
您是否想過具有彈性的電子產品及太陽能面板是如何製作的？最常見、但同時也是最高科技的鍍膜製程稱為「卷對卷鍍膜」(R2R)，適用於大量材料及產品的生產方法。
卷對卷 (R2R) 薄膜鍍膜機器可以將所有具彈性、且常以聚合物或不同金屬製成的材料鍍膜。這些材料經過鍍膜後，可修改其特性或避免磨損及/或隔離環境條件。應用方式相當多元，以下列舉一小部分使用真空法進行卷料鍍膜的範例：
適用於 PVD、PECVD 和熱蒸鍍的真空系統
以下三種卷對卷鍍膜製程需要運用真空：物理氣相沉積 (PVD)、電漿輔助化學氣相沉積 (PECVD) 和熱蒸鍍，上述三種都需要壓力範圍介於 10-1 to 10-3 mbar 的真空條件。
這些鍍膜應用不僅條件嚴苛，且對真空幫浦也帶來各種不同的考驗，包括：
- 迅速抽出製程腔體內的空氣，以節省寶貴的製程時間
- 高氣體輸送量
- 視最終產品需求而定，無油且無塵的真空環境可達到最佳的生產品質
- 可靠的操作
- 作業成本最佳化 (TCO)
- 精準製程控制
Leybold 具有為卷對卷鍍膜應用提供真空解決方案的良好表現記錄。我們集結這些專業知識，向您提供真空幫浦技術，能符合所有類型應用的真空需求。
