UNIVEX 箱型鍍膜系統
我們的精巧箱型鍍膜系統能讓您直接接觸製程腔室。Leybold UNIVEX box 鍍膜系統由其腔室大小定義。
- UNIVEX 250
- UNIVEX 400
- UNIVEX 600
- UNIVEX 900
UNIVEX 250
我們的精巧箱型鍍膜系統能讓您直接接觸製程腔室。Leybold UNIVEX Box 鍍膜系統由其腔室大小定義。
由於其高度僅約 1.2 m，因此非常適合放在工作臺上。可鍍膜的基材總直徑最大為 220 mm。
系統控制器可讓您分別執行手動或是半自動鍍膜製程。
一般應用：
- 接點金屬化 (金、銀、鉻、鎳、鈦等材質蒸鍍)
- 顯微鏡對比成像 (銦、碳等)
- 薄膜太陽能
一般配置
- 具備熱蒸鍍機的多口袋電子束
- 最多兩個採用共軛焦配置的 2” 濺鍍槍，用於向上濺鍍
UNIVEX 250 |
|
|---|---|
腔體尺寸 |
寬度：270 毫米，深度：370 毫米，高度：400 毫米 |
熱蒸鍍機 |
最多 4 種材質 |
有機蒸鍍機 |
最多 4 種材質 |
電子束蒸鍍 |
多口袋或單口袋 |
濺鍍 |
上或下，2 x 2" |
共沉積 |
蒸鍍和/或濺鍍 |
負載腔體相容 |
可選 |
加水回火腔體 |
可選 |
真空度 |
中級 10-7 mbar |
無塵室相容 |
有 |
UNIVEX 400
UNIVEX 400 是一款精巧的鍍膜系統，分別用於實驗室任務及試量產運行。 其腔室尺寸非常適合中小型基材的鍍膜。
可鍍膜的基材 / 基材架總直徑最大為 350 mm。
系統控制器可讓您執行手動、半自動及全自動鍍膜製程。
一般應用
- 薄膜太陽能：CdTe、CIGS、CZTS 濺鍍製程
- 有機電子 (PV、OLEDS)
- 光學鍍膜
- 微電子
一般配置
- 具備熱蒸鍍機與離子源的多口袋電子束。
- 最多四個採用共軛焦配置的 2” 濺鍍槍，用於向上或向下濺鍍
- 用於形成無機-有機鈣鈦礦的電子束和有機蒸鍍機
UNIVEX 400 |
|
|---|---|
腔體尺寸 |
寬度：420 毫米，深度：480 毫米，高度：550 毫米 |
熱蒸鍍機 |
最多 8 種材質 |
有機蒸鍍機 |
最多 8 種材質 |
電子束蒸鍍 |
多口袋或單口袋 |
濺鍍 |
向上或向下，4 X 2”、3 X 3”、2 X 4”或其他 |
共沉積 |
蒸鍍和/或濺鍍 |
負載腔體相容 |
可選 |
離子輔助沉積 |
可選 |
加水回火腔體 |
有 |
真空度 |
中級 10-7 mbar |
UHV 版本 |
可選 |
無塵室相容 |
有 |
UNIVEX 600
UNIVEX 600 是一款精巧的鍍膜系統，分別用於實驗室任務及試量產運行。 其腔室尺寸非常適合中大型基材的鍍膜。
可達到的基材產量能夠滿足小量生產的一般要求。可鍍膜的基材 / 基材架總直徑最大為 550 mm。
系統控制器可讓您執行手動、半自動及全自動鍍膜製程。
一般應用
- 光學鍍膜
- 光電裝置
- 電阻式 RAM
- 高溫超導體
一般配置
- 基材加熱器及 / 或冷卻器
- 具備熱蒸鍍機與離子源的多口袋電子束。
- 適用於單一或多個樣品的調色盤式、圓頂式或行星式基材配置
- 多個共軛焦或面對面配置的濺鍍槍
UNIVEX 600 |
|
|---|---|
腔體尺寸 |
寬度：600 毫米，深度：600 毫米，高度：800 毫米或 550 毫米 (濺鍍) |
熱蒸鍍機 |
最多 8 種材質 |
有機蒸鍍機 |
最多 8 種材質 |
電子束蒸鍍 |
多口袋和/或單口袋，多槍操作 |
濺鍍 |
向上或向下：4 X 3”、3 X 4”、6 X 2” 或其他 |
共沉積 |
蒸鍍和/或濺鍍 |
負載腔體相容 |
可選 |
離子輔助沉積 |
可選 |
加水回火腔體 |
有 |
真空度 |
中級 10-7 mbar |
UHV 版本 |
可選 |
無塵室相容 |
有 |
UNIVEX 900
UNIVEX 900 是最先進的解決方案，適合中大型基材，分別用於更高的基材產量。可鍍膜的基材 / 基材架總直徑最大為 800 mm。系統控制器可讓您執行手動、半自動及全自動鍍膜製程。
一般應用
- 光學鍍膜
- 光電裝置
- 電阻式 RAM
- 高溫超導體
一般配置
- 基材加熱器及 / 或冷卻器
- 具備離子源的多口袋電子束，適用於基材預先清潔和離子輔助沉積
- 適用於單一或多個樣品的調色盤式、圓頂式或行星式基材配置
- 多個共軛焦或面對面配置的濺鍍槍
UNIVEX 900 |
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|---|---|
腔體尺寸 |
寬度：900 毫米，深度：900 毫米，高度：1100 毫米 |
熱蒸鍍機 |
最多 8 種材質 |
有機蒸鍍機 |
最多 8 種材質 |
電子束蒸鍍 |
多口袋和/或單口袋，多槍操作 |
濺鍍 |
可選 |
共沉積 |
有 |
負載腔體相容 |
可選 |
離子輔助沉積 |
可選 |
加水回火腔體 |
有 |
真空度 |
中級 10-7 mbar |
UHV 版本 |
可選 |
無塵室相容 |
有 |
