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UNIVEX 箱型鍍膜系統

依其腔體大小定義

我們精巧的箱型鍍膜系統可讓您直接檢修製程腔體。

模組化系統設計

多用途真空腔體

方便觸及所有已安裝的設備

同一腔體中採用多種沉積技術

無塵室相容

UNIVEX 250

您通往無縫鍍膜製程的途徑,而該製程是專為世界各地的大學、實驗室、技職高中及工業研發設施所設計。

UNIVEX 250 提供不會在品質或效能方面妥協且符合成本效益的解決方案,可確保您達成精準且一致的結果。本產品具有直覺化的控制和輕鬆的操作,非常適合所有程度的使用者。 

UNIVEX 250 可滿足從接點金屬化到顯微鏡對比成像,及薄膜塗布的多樣化鍍膜需求。

本產品堅固耐用的設計和可靠的效能,使其成為任何科學或工業環境不可或缺的工具,提供便利的檢修、模組化的可擴充性,以及賦予極致彈性的機動功能。 

一般應用:

  • 接點金屬化 (金、銀、鉻、鎳、鈦等材質蒸鍍)
  • 顯微鏡對比成像 (銦、碳等)
  • 薄膜太陽能
  • 高中與大學的教育目的

配置:

  • 熱蒸鍍
  • 電子束蒸鍍
  • 濺鍍

Leybold 的 UNIVEX 250
 

UNIVEX 250

腔體尺寸

寬度:270 毫米,深度:370 毫米,高度:400 毫米
整體尺寸 寬度:1,300 毫米,深度:860 毫米,高度:1,990 毫米

熱蒸鍍機

最多 4 種材質

有機蒸鍍機

最多 4 種材質

電子束蒸鍍

多口袋或單口袋

濺鍍

上或下,2 x 2"

共沉積

蒸鍍和/或濺鍍

系統控制 配備監視器的 PLC
薄膜厚度感應器 石英晶體 

負載腔體相容

可選

加水回火腔體

可選

真空度

中級 10-7 mbar

無塵室相容

UNIVEX 400

UNIVEX 400 是一款精巧的鍍膜系統,分別用於實驗室任務及試量產運行。 其腔體尺寸非常適合中小型基材的鍍膜。 

可鍍膜的基材 / 基材架總直徑最大為 350 mm。 

系統控制器可讓您執行手動、半自動及全自動鍍膜製程。 

 一般應用

  • 薄膜太陽能:CdTe、CIGS、CZTS 濺鍍製程
  • 有機電子 (PV、OLEDS)
  • 光學鍍膜
  • 微電子

一般配置

  • 具備熱蒸鍍機與離子源的多口袋電子束。
  • 最多四個採用共軛焦配置的 2” 濺鍍槍,用於向上或向下濺鍍
  • 用於形成無機-有機鈣鈦礦的電子束和有機蒸鍍機
UNIVEX Coating Systems
 

UNIVEX 400

腔體尺寸

寬度:420 毫米,深度:480 毫米,高度:550 毫米

熱蒸鍍機

最多 8 種材質

有機蒸鍍機

最多 8 種材質

電子束蒸鍍

多口袋或單口袋

濺鍍

向上或向下,4  X  2”、3  X  3”、2  X  4”或其他

共沉積

蒸鍍和/或濺鍍

負載腔體相容

可選

離子輔助沉積

可選

加水回火腔體

真空度

中級 10-7 mbar

UHV 版本

可選

無塵室相容

UNIVEX 600

UNIVEX 600 是一款精巧的鍍膜系統,分別用於實驗室任務及試量產運行。 其腔體尺寸非常適合中大型基材的鍍膜。 

可達到的基材產量能夠滿足小量生產的一般要求。可鍍膜的基材 / 基材架總直徑最大為 550 mm。 

系統控制器可讓您執行手動、半自動及全自動鍍膜製程。 

一般應用

  • 光學鍍膜
  • 光電裝置
  • 電阻式 RAM
  • 高溫超導體

一般配置

  • 基材加熱器及 / 或冷卻器 
  • 具備熱蒸鍍機與離子源的多口袋電子束。
  • 適用於單一或多個樣品的調色盤式、圓頂式或行星式基材配置
  • 多個共軛焦或面對面配置的濺鍍槍
UNIVEX Coating Systems
 

UNIVEX 600

腔體尺寸

寬度:600 毫米,深度:600 毫米,高度:800 毫米或 550 毫米 (濺鍍)

熱蒸鍍機

最多 8 種材質

有機蒸鍍機

最多 8 種材質

電子束蒸鍍

多口袋和/或單口袋,多槍操作

濺鍍

向上或向下:4 X 3”、3 X 4”、6 X 2” 或其他

共沉積

蒸鍍和/或濺鍍

負載腔體相容

可選

離子輔助沉積

可選

加水回火腔體

真空度

中級 10-7 mbar

UHV 版本

可選

無塵室相容

UNIVEX 900

UNIVEX 900 是最先進的解決方案,適合中大型基材,分別用於更高的基材產量。可鍍膜的基材 / 基材架總直徑最大為 800 mm。系統控制器可讓您執行手動、半自動及全自動鍍膜製程。

一般應用

  • 光學鍍膜
  • 光電裝置
  • 電阻式 RAM
  • 高溫超導體

一般配置

  • 基材加熱器及 / 或冷卻器 
  • 具備離子源的多口袋電子束,適用於基材預先清潔和離子輔助沉積
  • 適用於單一或多個樣品的調色盤式、圓頂式或行星式基材配置
  • 多個共軛焦或面對面配置的濺鍍槍
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UNIVEX 900

腔體尺寸

寬度:900 毫米,深度:900 毫米,高度:1100 毫米

熱蒸鍍機

最多 8 種材質

有機蒸鍍機

最多 8 種材質

電子束蒸鍍

多口袋和/或單口袋,多槍操作

濺鍍

可選

共沉積

負載腔體相容

可選

離子輔助沉積

可選

加水回火腔體

真空度

中級 10-7 mbar

UHV 版本

可選

無塵室相容

UNIVEX 250

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