TWISTER 基材台
讓研究與開發變輕鬆
完全獨立製造的 TWISTER™ 基材台是將創新、健全且可靠的技術整合至 UNIVEX 系統，或任何其他可能已在運作之鍍膜腔室的下一步。
專為特定應用量身打造的解決方案
為了確保鍍膜製程成功且可重現，我們開發了可旋轉的可加熱基材台，能夠提供絕佳同質性的鍍膜品質。
為滿足您的不同需求，我們提供含有三種主要版本的模組化系統：
- 基本
- 進階
- 全功能
我們可以從其中衍生出 576 種可能的變化！
模組化系統
由於採用模組化原理，因此 TWISTER™ 基材台是典型的可升級裝置，如果有新增負載搬送，則只需要再安裝一個氣動夾鉗即可。如果需要冷卻功能，只需要將加熱板更換成合併加熱 + 冷卻板即可。
精準操作提供精確結果
- 由於能精確旋轉基材，因此能提供一致且具同質性的薄膜
- 選配 Z-shift 可調整基材與鍍膜來源之間的距離以供負載搬送移交
- 基材板直徑可達 6 英吋的彈性
- 加熱至最高 400 °C 以改善層品質
- 選配水冷功能：
- 保護鋁箔和 OLED 材料等易損壞的基材
- 冷卻和後續處理更快
- 可輕鬆更換的鍍膜護罩，方便清潔
- 內含位置控制
- 可升級大部分現有的實驗室鍍膜裝置
