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TWISTER 基材台

讓研究與開發變輕鬆

完全獨立製造的 TWISTER™ 基材台是將創新、健全且可靠的技術整合至 UNIVEX 系統,或任何其他可能已在運作之鍍膜腔室的下一步。

專為特定應用量身打造的解決方案

為了確保鍍膜製程成功且可重現,我們開發了可旋轉的可加熱基材台,能夠提供絕佳同質性的鍍膜品質。

為滿足您的不同需求,我們提供含有三種主要版本的模組化系統:

  • 基本
  • 進階
  • 全功能

我們可以從其中衍生出 576 種可能的變化!

模組化系統

由於採用模組化原理,因此 TWISTER™ 基材台是典型的可升級裝置,如果有新增負載搬送,則只需要再安裝一個氣動夾鉗即可。如果需要冷卻功能,只需要將加熱板更換成合併加熱 + 冷卻板即可。

精準操作提供精確結果

  • 由於能精確旋轉基材,因此能提供一致且具同質性的薄膜
  • 選配 Z-shift 可調整基材與鍍膜來源之間的距離以供負載搬送移交
  • 基材板直徑可達 6 英吋的彈性
  • 加熱至最高 400 °C 以改善層品質
  • 選配水冷功能:
    • 保護鋁箔和 OLED 材料等易損壞的基材
    • 冷卻和後續處理更快
  • 可輕鬆更換的鍍膜護罩,方便清潔
  • 內含位置控制
  • 可升級大部分現有的實驗室鍍膜裝置
TWISTER - substrate stage for vacuum coating systems
TWISTER™ 基材台
下載
Systems + Solutions

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