Ultrahochvakuum (UHV) ist der Vakuumbereich, der durch Drücke von weniger als 10-9 mbar (oder 10-7 Pa) gekennzeichnet ist. Für viele analytische Oberflächentechniken wie Röntgen-Photoelektronenspektroskopie (XPS), Auger-Elektronenspektroskopie (AES), Sekundärionen-Massenspektrometrie (SIMS) oder Feldemissionsmikroskopie (FEM) sind Ultrahochvakuumbedingungen erforderlich. Auch Dünnschichtwachstums- und Präparationstechniken mit hohen Anforderungen an die Reinheit, wie Molekularstrahlepitaxie (MBE) und Atomschichtabscheidung (ALD), beruhen auf UHV-Bedingungen. Strahllinien von Beschleunigern sowie Gravitationswellendetektoren arbeiten ebenfalls unter UHV-Bedingungen. Diese Vakuumniveaus erfordern den Einsatz von speziellen Materialien und Pumpprinzipien.
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