ลิ้นชักเก็บของ UNIVEX G
การโหลดและการเคลือบสารตั้งต้นที่ไวต่อความชื้นและออกซิเจนภายใต้สภาพแวดล้อมเฉื่อย
ระบบกล่องถุงมือมาตรฐานของเราช่วยให้สามารถบรรจุและเคลือบพื้นผิวที่ไวต่อความชื้นและออกซิเจนภายใต้สภาพแวดล้อมเฉื่อยของกล่องถุงมือได้
ระบบ UNIVEX G มีประตูเลื่อนด้านหน้าสําหรับการเชื่อมต่อกับกล่องถุงมือ ประตูเลื่อนนี้ช่วยให้ผู้ปฏิบัติงานเข้าถึงห้องทํางานได้ง่ายผ่านกล่องถุงมือ ในกรณีที่จําเป็นต้องเข้าถึงโดยตรง UNIVEX G มีประตูบานที่สองที่ด้านหลัง
การประยุกต์ใช้งานทั่วไป
- การทําโลหะแบบสัมผัส (การระเหยของทอง เงิน โครเมียม นิกเกิล ไทเทเนียม ฯลฯ)
- เซ็นเซอร์ทางชีวภาพ / อุปกรณ์ทางการแพทย์
- อิเล็กทรอนิกส์อินทรีย์: OLED, โซลาร์เซลล์อินทรีย์
- จุดควอนตัม/จอแสดงผล
- เครื่องระเหย E-beam และสารอินทรีย์สําหรับการก่อตัวของเปอโรวิสไซต์อนินทรีย์-อินทรีย์
- UNIVEX G 250
- UNIVEX G 350
- UNIVEX G 450
UNIVEX G 250
UNIVEX G 250
UNIVEX G 250 เป็นโซลูชันที่สะดวกและคุ้มค่าสําหรับงานเคลือบผิวที่ต้องการพื้นที่น้อย
สามารถแปรรูปสารตั้งต้น ตัวยึดสารตั้งต้นตามลําดับได้จนถึงเส้นผ่านศูนย์กลางโดยรวมประมาณ 220 มม.
G 250 |
|
|---|---|
ขนาดห้องอบ |
ความกว้าง 270 มม. ความลึก 370 มม. ความสูง 400 มม. |
เครื่องระเหยความร้อน |
วัสดุสูงสุด 4 ชนิด |
เครื่องระเหยสารอินทรีย์ |
วัสดุสูงสุด 4 ชนิด |
การระเหยของลําแสงอิเล็กตรอน |
หลายกระเป๋าหรือกระเป๋าเดียว |
การฉีดพ่น |
ขึ้นหรือลง, 2 x 2" |
การสะสมตัว |
การระเหยและ/หรือการสปัตเตอร์ |
เข้ากันได้กับระบบล็อกโหลด |
ตัวเลือก |
ระดับสุญญากาศ |
ปานกลาง 10 -7 mbar |
เข้ากันได้กับห้องปลอดเชื้อ |
ใช่ |
UNIVEX G 350
UNIVEX G 350
UNIVEX G 350 ผสมผสานการออกแบบที่กะทัดรัดเข้ากับพื้นที่ห้องอบที่กว้างขวาง
สําหรับงานเคลือบผิวหลายอย่าง UNIVEX G 350 มอบสภาพพื้นที่ที่เหมาะสมที่สุดและการเข้าถึงส่วนประกอบกระบวนการและการแปรรูปสารตั้งต้นที่สะดวกสบาย
สามารถแปรรูปสารตั้งต้นและตัวยึดสารตั้งต้นได้สูงสุดถึงเส้นผ่านศูนย์กลางโดยรวมประมาณ 300 มม.
G 350 |
|
|---|---|
ขนาดห้องอบ |
ความกว้าง: 370 มม. ความลึก: 390 มม. ความสูง: 500 มม. |
เครื่องระเหยความร้อน |
วัสดุสูงสุด 8 ชนิด |
เครื่องระเหยสารอินทรีย์ |
วัสดุสูงสุด 4 ชนิด |
การระเหยด้วยลําแสงอิเล็กตรอน |
หลายกระเป๋าและ/หรือกระเป๋าเดียว |
การฉีดพ่น |
ขึ้นหรือลง: ปืน 3 X 2 นิ้ว หรือปืน 2 X 3 นิ้ว |
การสะสมตัว |
การระเหยและ/หรือการสปัตเตอร์ |
เข้ากันได้กับระบบล็อกโหลด |
ตัวเลือก |
การสะสมด้วยไอออน |
ตัวเลือก |
ระดับสุญญากาศ |
ปานกลาง 10 -7 mbar |
เข้ากันได้กับห้องปลอดเชื้อ |
ใช่ |
UNIVEX G 450
UNIVEX G 450
เนื่องจากขนาดของห้องอบ UNIVEX G 450 จึงเหมาะสําหรับงานเคลือบผิวทั้งหมดที่ต้องการพื้นที่มาก สามารถแปรรูปสารตั้งต้นหรือตัวยึดสารตั้งต้นที่มีเส้นผ่านศูนย์กลางรวมมากกว่า 400 มม. ได้ ด้วยความสูง 650 มม. ห้องสุญญากาศยังเหมาะสําหรับการใช้งานแบบยกออก
G 450 |
|
|---|---|
ขนาดห้องอบ |
ความกว้าง: 500 มม. ความลึก: 500 มม. ความสูง: 650 มม. |
เครื่องระเหยความร้อน |
วัสดุสูงสุด 8 ชนิด |
เครื่องระเหยสารอินทรีย์ |
วัสดุสูงสุด 8 ชนิด |
การระเหยด้วยลําแสงอิเล็กตรอน |
หลายกระเป๋าและ/หรือกระเป๋าเดียว |
การฉีดพ่น |
ขึ้นหรือลง: 3 X 3", 2 X 4", 4 X 2" หรืออื่นๆ |
การสะสมตัว |
การระเหยและ/หรือการสปัตเตอร์ |
เข้ากันได้กับระบบล็อกโหลด |
ตัวเลือก |
การสะสมด้วยไอออน |
ตัวเลือก |
ระดับสุญญากาศ |
ปานกลาง 10 -7 mbar |
เข้ากันได้กับห้องปลอดเชื้อ |
ใช่ |
UNIVEX G 250
UNIVEX G 250 เป็นโซลูชันที่สะดวกและคุ้มค่าสําหรับงานเคลือบผิวที่ต้องการพื้นที่น้อย
สามารถแปรรูปสารตั้งต้น ตัวยึดสารตั้งต้นตามลําดับได้จนถึงเส้นผ่านศูนย์กลางโดยรวมประมาณ 220 มม.
G 250 |
|
|---|---|
ขนาดห้องอบ |
ความกว้าง 270 มม. ความลึก 370 มม. ความสูง 400 มม. |
เครื่องระเหยความร้อน |
วัสดุสูงสุด 4 ชนิด |
เครื่องระเหยสารอินทรีย์ |
วัสดุสูงสุด 4 ชนิด |
การระเหยของลําแสงอิเล็กตรอน |
หลายกระเป๋าหรือกระเป๋าเดียว |
การฉีดพ่น |
ขึ้นหรือลง, 2 x 2" |
การสะสมตัว |
การระเหยและ/หรือการสปัตเตอร์ |
เข้ากันได้กับระบบล็อกโหลด |
ตัวเลือก |
ระดับสุญญากาศ |
ปานกลาง 10 -7 mbar |
เข้ากันได้กับห้องปลอดเชื้อ |
ใช่ |
UNIVEX G 350
UNIVEX G 350 ผสมผสานการออกแบบที่กะทัดรัดเข้ากับพื้นที่ห้องอบที่กว้างขวาง
สําหรับงานเคลือบผิวหลายอย่าง UNIVEX G 350 มอบสภาพพื้นที่ที่เหมาะสมที่สุดและการเข้าถึงส่วนประกอบกระบวนการและการแปรรูปสารตั้งต้นที่สะดวกสบาย
สามารถแปรรูปสารตั้งต้นและตัวยึดสารตั้งต้นได้สูงสุดถึงเส้นผ่านศูนย์กลางโดยรวมประมาณ 300 มม.
G 350 |
|
|---|---|
ขนาดห้องอบ |
ความกว้าง: 370 มม. ความลึก: 390 มม. ความสูง: 500 มม. |
เครื่องระเหยความร้อน |
วัสดุสูงสุด 8 ชนิด |
เครื่องระเหยสารอินทรีย์ |
วัสดุสูงสุด 4 ชนิด |
การระเหยด้วยลําแสงอิเล็กตรอน |
หลายกระเป๋าและ/หรือกระเป๋าเดียว |
การฉีดพ่น |
ขึ้นหรือลง: ปืน 3 X 2 นิ้ว หรือปืน 2 X 3 นิ้ว |
การสะสมตัว |
การระเหยและ/หรือการสปัตเตอร์ |
เข้ากันได้กับระบบล็อกโหลด |
ตัวเลือก |
การสะสมด้วยไอออน |
ตัวเลือก |
ระดับสุญญากาศ |
ปานกลาง 10 -7 mbar |
เข้ากันได้กับห้องปลอดเชื้อ |
ใช่ |
UNIVEX G 450
เนื่องจากขนาดของห้องอบ UNIVEX G 450 จึงเหมาะสําหรับงานเคลือบผิวทั้งหมดที่ต้องการพื้นที่มาก สามารถแปรรูปสารตั้งต้นหรือตัวยึดสารตั้งต้นที่มีเส้นผ่านศูนย์กลางรวมมากกว่า 400 มม. ได้ ด้วยความสูง 650 มม. ห้องสุญญากาศยังเหมาะสําหรับการใช้งานแบบยกออก
G 450 |
|
|---|---|
ขนาดห้องอบ |
ความกว้าง: 500 มม. ความลึก: 500 มม. ความสูง: 650 มม. |
เครื่องระเหยความร้อน |
วัสดุสูงสุด 8 ชนิด |
เครื่องระเหยสารอินทรีย์ |
วัสดุสูงสุด 8 ชนิด |
การระเหยด้วยลําแสงอิเล็กตรอน |
หลายกระเป๋าและ/หรือกระเป๋าเดียว |
การฉีดพ่น |
ขึ้นหรือลง: 3 X 3", 2 X 4", 4 X 2" หรืออื่นๆ |
การสะสมตัว |
การระเหยและ/หรือการสปัตเตอร์ |
เข้ากันได้กับระบบล็อกโหลด |
ตัวเลือก |
การสะสมด้วยไอออน |
ตัวเลือก |
ระดับสุญญากาศ |
ปานกลาง 10 -7 mbar |
เข้ากันได้กับห้องปลอดเชื้อ |
ใช่ |
- ร้านค้าออนไลน์
- เอกสารประกอบ
ร้านค้าออนไลน์
เอกสารประกอบ
