Solar panel with water drops on a nano coating

พลังงานแสงอาทิตย์

การผลิตแผงโซลาร์เซลล์สามารถแบ่งออกเป็นสองเทคโนโลยีที่แตกต่างกัน ได้แก่ เวเฟอร์และฟิล์มบาง

ในการผลิตเซลล์แสงอาทิตย์ที่ใช้แผ่นชิพ ขั้นตอนแรกของสุญญากาศคือการผลิตแผ่นชิพซิลิคอน ซึ่งถูกตัดออกจากแท่งผลึกเดี่ยวหรือโพลิผลึก ซึ่งผลิตภายใต้สุญญากาศในกระบวนการเพาะเลี้ยงผลึก DSS หรือ Czochralski (ดูรายละเอียดเพิ่มเติมได้ที่การดึงผลึก)

ขั้นตอนสุญญากาศที่สําคัญอีกขั้นตอนหนึ่งคือการเคลือบผิวด้วย Physical Vapor Deposition of Transparent Conductive Oxide (PVD TCO) ซึ่งจะสปัตเตอร์ที่ด้านหน้าและด้านหลังของชั้นกอง

ในการผลิตเซลล์พลังงานแสงอาทิตย์แบบฟิล์มบาง มีเทคโนโลยีหลักสองอย่าง ได้แก่ CIGS (ทองแดง อินเดียม แกลเลียม ซีลีเนียม) และ CdTe (แคดเมียม เทลลูเรียม) ชั้นที่ใช้งานอยู่ทั้งสองชั้นจะถูกนําไปใช้ในเครื่องเคลือบสุญญากาศในหลายขั้นตอนของกระบวนการ อีกครั้ง การเคลือบ PVD TCO จะถูกสปัตเตอร์ที่ด้านหน้าและด้านหลังของกองชั้น

เทคโนโลยีเฮเทอโรจิคชัน (HJT) แบบใหม่ผสมผสานขั้นตอนการสะสมสารเคมีด้วยไอ (CVD) เข้ากับการเคลือบผิวหน้าและหลังแบบ PVD ที่รู้จักกันดี ขั้นตอนการเคลือบผิว CVD จะใช้บนพื้นฐานอสัณฐานหรือผลึกขนาดเล็ก ในเทคโนโลยีนี้ Leybold มีปั๊มจํานวนมากที่ติดตั้งอยู่ทั่วโลก

โดยทั่วไปแล้ว กระบวนการสุญญากาศทั้งหมดจะดําเนินการในเครื่องเคลือบผิวแบบอินไลน์ขนาดใหญ่ ซึ่งทํางานด้วยรอบเวลาที่สั้นที่สุด Leybold สนับสนุนเทคโนโลยีนี้ตั้งแต่เริ่มต้นและมีความเชี่ยวชาญที่กว้างขวาง Leybold ได้พัฒนาระบบ POWERBOOST ขึ้นมาโดยเฉพาะสําหรับการปั๊มแบบล็อคโหลดที่รวดเร็ว ระบบปั๊ม DRYVAC/RUVAC แบบพิเศษอื่นๆ ได้รับการพิสูจน์แล้วว่าเป็นโซลูชันที่เชื่อถือได้มากที่สุดสําหรับการใช้งานที่มีความต้องการสูง เช่น CIGS และ CdTe และรับประกันเวลาทํางานของโรงงานสูงสุด

HJT มีความท้าทายมากยิ่งขึ้น เนื่องจากกระบวนการนี้สร้างฝุ่นปริมาณมากและใช้ก๊าซเติมสารพิษนอกเหนือจาก H2 DRYVAC มีความโดดเด่นในเรื่องนี้เนื่องจากมีการปิดผนึกแน่นสนิท และวัสดุของปั๊มถูกเลือกโดยเฉพาะเพื่อจัดการกับกระบวนการดังกล่าว