Kotak sarung tangan UNIVEX G
Pemuatan dan pelapisan substrat peka kelembapan dan oksigen di bawah lingkungan lembam
Sistem kotak sarung tangan standar kami memungkinkan pemuatan dan pelapisan substrat peka kelembapan dan oksigen di bawah lingkungan lembam kotak sarung tangan.
Sistem UNIVEX G dilengkapi pintu geser depan untuk sambungan ke kotak sarung tangan. Pintu geser ini memungkinkan operator mengakses ruang proses dengan mudah melalui kotak sarung tangan. Jika akses langsung diperlukan, UNIVEX G memiliki pintu kedua di bagian belakang.
Aplikasi umum
- Metalisasi kontak (penguapan emas, perak, kromium, nikel, titanium, dll.)
- Biosensor/perangkat medis
- Elektronik organik: OLED, fotovoltaik organik
- Dot kuantum / tampilan
- E-beam dan evaporator organik untuk pembentukan perovskite anorganik-organik
- UNIVEX G 250
- UNIVEX G 350
- UNIVEX G 450
UNIVEX G 250
UNIVEX G 250
UNIVEX G 250 adalah solusi yang nyaman dan hemat biaya untuk tugas pelapisan yang tidak memerlukan banyak ruang.
Substrat atau dudukan substrat hingga diameter keseluruhan sekitar 220 mm dapat diproses.
G 250 |
|
|---|---|
Ukuran ruang |
Lebar 270 mm Kedalaman 370 mm Tinggi 400 mm |
Evaporator termal |
hingga 4 bahan |
Evaporator organik |
hingga 4 bahan |
Evaporasi sinar elektron |
multi saku atau saku tunggal |
Sputtering |
naik atau turun, 2 x 2" |
Co-Deposition |
evaporasi dan/atau sputtering |
Kompatibel dengan kunci beban |
opsional |
Tingkat vakum |
tengah 10 -7 mbar |
Kompatibel dengan ruang bersih |
ya |
UNIVEX G 350
UNIVEX G 350
UNIVEX G 350 menggabungkan desain yang ringkas dengan ruang ruang yang luas.
Untuk banyak tugas pelapisan, UNIVEX G 350 menawarkan kondisi ruang yang optimal dan akses yang nyaman ke komponen proses dan pemrosesan substrat.
Substrat atau dudukan substrat hingga diameter keseluruhan sekitar 300 mm dapat diproses.
G 350 |
|
|---|---|
ukuran ruang |
Lebar: 370 mm Kedalaman: 390 mm Tinggi: 500 mm |
evaporator termal |
hingga 8 materi |
evaporator organik |
Hingga 4 bahan |
evaporasi sinar elektron |
Multi saku dan/atau saku tunggal |
sputtering |
Atas atau bawah: 3 X 2" pistol, atau 2 X 3" pistol |
Co-Deposition |
Penguapan dan/atau sputtering |
kompatibel dengan kunci beban |
opsional |
Deposisi dengan bantuan ion |
opsional |
tingkat vakum |
tengah 10 -7 mbar |
kompatibel dengan ruang bersih |
ya |
UNIVEX G 450
UNIVEX G 450
Berkat dimensinya, UNIVEX G 450 cocok untuk semua tugas pelapisan yang memerlukan banyak ruang. Substrat atau dudukan substrat hingga diameter keseluruhan lebih dari 400 mm dapat diproses. Dengan ketinggian 650 mm, ruang vakum juga cocok untuk aplikasi pengangkatan.
G 450 |
|
|---|---|
ukuran ruang |
Lebar: 500 mm Kedalaman: 500 mm Tinggi: 650 mm |
evaporator termal |
Hingga 8 bahan |
evaporator organik |
Hingga 8 bahan |
evaporasi sinar elektron |
Multi saku dan/atau saku tunggal |
sputtering |
Atas atau bawah: 3 X 3", 2 X 4", 4 X 2" atau lainnya |
Co-Deposition |
Penguapan dan/atau sputtering |
kompatibel dengan kunci beban |
opsional |
Deposisi dengan bantuan ion |
opsional |
tingkat vakum |
tengah 10 -7 mbar |
kompatibel dengan ruang bersih |
ya |
UNIVEX G 250
UNIVEX G 250 adalah solusi yang nyaman dan hemat biaya untuk tugas pelapisan yang tidak memerlukan banyak ruang.
Substrat atau dudukan substrat hingga diameter keseluruhan sekitar 220 mm dapat diproses.
G 250 |
|
|---|---|
Ukuran ruang |
Lebar 270 mm Kedalaman 370 mm Tinggi 400 mm |
Evaporator termal |
hingga 4 bahan |
Evaporator organik |
hingga 4 bahan |
Evaporasi sinar elektron |
multi saku atau saku tunggal |
Sputtering |
naik atau turun, 2 x 2" |
Co-Deposition |
evaporasi dan/atau sputtering |
Kompatibel dengan kunci beban |
opsional |
Tingkat vakum |
tengah 10 -7 mbar |
Kompatibel dengan ruang bersih |
ya |
UNIVEX G 350
UNIVEX G 350 menggabungkan desain yang ringkas dengan ruang ruang yang luas.
Untuk banyak tugas pelapisan, UNIVEX G 350 menawarkan kondisi ruang yang optimal dan akses yang nyaman ke komponen proses dan pemrosesan substrat.
Substrat atau dudukan substrat hingga diameter keseluruhan sekitar 300 mm dapat diproses.
G 350 |
|
|---|---|
ukuran ruang |
Lebar: 370 mm Kedalaman: 390 mm Tinggi: 500 mm |
evaporator termal |
hingga 8 materi |
evaporator organik |
Hingga 4 bahan |
evaporasi sinar elektron |
Multi saku dan/atau saku tunggal |
sputtering |
Atas atau bawah: 3 X 2" pistol, atau 2 X 3" pistol |
Co-Deposition |
Penguapan dan/atau sputtering |
kompatibel dengan kunci beban |
opsional |
Deposisi dengan bantuan ion |
opsional |
tingkat vakum |
tengah 10 -7 mbar |
kompatibel dengan ruang bersih |
ya |
UNIVEX G 450
Berkat dimensinya, UNIVEX G 450 cocok untuk semua tugas pelapisan yang memerlukan banyak ruang. Substrat atau dudukan substrat hingga diameter keseluruhan lebih dari 400 mm dapat diproses. Dengan ketinggian 650 mm, ruang vakum juga cocok untuk aplikasi pengangkatan.
G 450 |
|
|---|---|
ukuran ruang |
Lebar: 500 mm Kedalaman: 500 mm Tinggi: 650 mm |
evaporator termal |
Hingga 8 bahan |
evaporator organik |
Hingga 8 bahan |
evaporasi sinar elektron |
Multi saku dan/atau saku tunggal |
sputtering |
Atas atau bawah: 3 X 3", 2 X 4", 4 X 2" atau lainnya |
Co-Deposition |
Penguapan dan/atau sputtering |
kompatibel dengan kunci beban |
opsional |
Deposisi dengan bantuan ion |
opsional |
tingkat vakum |
tengah 10 -7 mbar |
kompatibel dengan ruang bersih |
ya |
- Toko Online
- Dokumen
Toko Online
Dokumen
