Lapisan surya
Lapisan surya
Produksi panel surya dapat dibagi menjadi dua teknologi berbeda: berbasis wafer dan film tipis.
Dalam produksi sel surya berbasis wafer, langkah vakum pertama adalah pembuatan wafer silikon. Ini dipotong dari ingot monokristalin atau polikristalin, yang diproduksi di bawah vakum dalam proses pertumbuhan kristal DSS atau Czochralski (untuk detail lebih lanjut, lihat penarikan kristal).
Langkah vakum penting lainnya adalah langkah pelapisan Physical Vapor Deposition of Transparent Conductive Oxide (PVD TCO), yang disemprotkan di bagian depan dan belakang tumpukan lapisan.
Dalam produksi sel surya film tipis, ada dua teknologi utama: CIGS (Tembaga, Indium, Gallium, Selenium) dan CdTe (Kadmium, Tellurium). Kedua tumpukan lapisan aktif diaplikasikan dalam vacuum coater dalam beberapa langkah proses. Sekali lagi, lapisan PVD TCO disemprotkan di bagian depan dan belakang tumpukan lapisan.
Teknologi heterojunction (HJT) baru menggabungkan langkah Chemical Vapor Deposition (CVD) dengan lapisan kontak depan dan belakang PVD yang terkenal. Langkah pelapisan CVD diterapkan berdasarkan amorf atau mikrokristalin. Dalam teknologi ini, Leybold memiliki sejumlah besar pompa yang dipasang di seluruh dunia.
Semua proses vakum biasanya dilakukan dalam mesin pelapis inline besar, yang beroperasi dengan waktu siklus terpendek. Leybold telah mendukung teknologi ini sejak awal dan telah mengumpulkan keahlian yang luas. Untuk pemompaan kunci beban cepat, Leybold secara khusus mengembangkan sistem POWERBOOST. Sistem pompa DRYVAC/RUVAC khusus lainnya telah terbukti sebagai solusi paling andal untuk aplikasi yang menuntut seperti CIGS dan CdTe dan memastikan waktu operasi pabrik tertinggi.
HJT bahkan lebih menuntut, karena proses ini menghasilkan sejumlah besar debu dan menggunakan gas doping beracun selain H2. DRYVAC unggul di sini, karena tertutup rapat, dan bahan pompa dipilih secara khusus untuk menangani proses tersebut.
- Aplikasi terkait
- Produk terkait
