Sistem pelapisan kotak UNIVEX Ditentukan oleh ukuran ruang
Sistem pelapisan kotak ringkas kami memungkinkan akses langsung ke ruang proses.
- UNIVEX 250
- UNIVEX 400
- UNIVEX 600
- UNIVEX 900
UNIVEX 250
UNIVEX 250
Gerbang Anda ke proses pelapisan yang mulus, dirancang khusus untuk universitas, laboratorium, sekolah menengah atas teknis, dan fasilitas R&D industri di seluruh dunia.
UNIVEX 250 menawarkan solusi hemat biaya yang tidak mengorbankan kualitas atau performa, sehingga memastikan Anda mencapai hasil yang akurat dan konsisten. Dengan kontrol intuitif dan pengoperasian yang bebas masalah, produk ini cocok untuk pengguna dari semua tingkatan.
UNIVEX 250 memenuhi berbagai kebutuhan pelapisan, mulai dari metalisasi kontak hingga pencitraan kontras untuk aplikasi mikroskopi dan film tipis.
Desainnya yang kokoh dan performanya yang andal menjadikannya alat bantu penting untuk lingkungan ilmiah atau industri apa pun, memberikan akses yang nyaman, ekstensibilitas modular, dan kemampuan seluler untuk fleksibilitas terbaik.
Penggunaan umum:
- Metalisasi kontak (penguapan emas, perak, kromium, nikel, titanium, dll.)
- Pencitraan kontras untuk mikroskopi (indium, karbon, dll.)
- Solar film tipis
- Tujuan pendidikan di sekolah menengah atas dan universitas
Konfigurasi:
- Evaporasi Termal
- Evaporasi Sinar E
- Sputtering
| UNIVEX 250 | |
|---|---|
| Ukuran ruang | lebar: 270 mm, kedalaman: 370 mm, tinggi: 400 mm |
| Ukuran keseluruhan | lebar: 1400 mm, kedalaman: 950 mm, tinggi: 1800 mm |
| Evaporator termal | hingga 4 bahan |
| Evaporator organik | hingga 4 bahan |
| Evaporasi sinar elektron | multi saku atau saku tunggal |
| Sputtering | hingga 2 x 2" sumber |
| Co-Deposition | evaporasi dan/atau sputtering dapat terjadi |
| Sistem kontrol | PLC dengan monitor |
| Sensor ketebalan film | Kristal kuarsa |
| Tingkat vakum | < 1 E-6 mbar |
| Kompatibel dengan ruang bersih | Ya |
UNIVEX 400
UNIVEX 400
UNIVEX 400 adalah sistem pelapisan ringkas untuk tugas laboratorium, masing-masing menjalankan produksi pilot. Karena dimensi ruangnya, produk ini ideal untuk pelapisan substrat berukuran kecil hingga sedang.
Substrat/dudukan substrat hingga diameter keseluruhan maks. 350 mm dapat dilapisi.
Pengontrol sistem memungkinkan Anda menjalankan proses pelapisan secara manual, semi-otomatis, dan sepenuhnya otomatis.
Aplikasi umum
- Solar film tipis: proses sputtering CdTe, CIGS, CZTS
- Elektronik organik (PV, OLEDS)
- Lapisan optik
- Mikroelektronika
Konfigurasi umum
- E-beam multi-pocket dengan evaporator termal dan sumber ion.
- Hingga empat pistol sputter 2" dalam konfigurasi konfokal untuk sputter naik atau turun
- E-beam dan evaporator organik untuk pembentukan perovskite anorganik-organik
UNIVEX 400 |
|
|---|---|
Ukuran ruang |
lebar: 420 mm, kedalaman: 480 mm, tinggi: 550 mm |
Evaporator termal |
hingga 8 materi |
Evaporator organik |
hingga 8 materi |
Evaporasi sinar elektron |
multi saku atau saku tunggal |
Sputtering |
naik atau turun, 4 X 2", 3 X 3", 2 X 4" atau lainnya |
Co-Deposition |
evaporasi dan/atau sputtering |
Kompatibel dengan kunci beban |
opsional |
Deposisi dengan bantuan ion |
opsional |
Ruang suhu air |
ya |
Tingkat vakum |
tengah 10 -7 mbar |
Versi UHV |
opsional |
Kompatibel dengan ruang bersih |
ya |
UNIVEX 600
UNIVEX 600
UNIVEX 600 adalah sistem pelapisan ringkas untuk laboratorium, masing-masing rangkaian produksi pilot. Karena ukuran ruangnya, produk ini cocok untuk ukuran substrat sedang hingga besar.
Produktivitas substrat yang dapat dicapai memenuhi persyaratan umum untuk produksi seri kecil. Substrat/dudukan substrat hingga maksimal diameter keseluruhan 550 mm dapat dilapisi.
Pengontrol sistem memungkinkan Anda menjalankan proses pelapisan manual, semi-otomatis, dan otomatis sepenuhnya.
Aplikasi umum
- Lapisan optik
- Perangkat optoelektronik
- RAM resistif
- Superkonduktor suhu tinggi
Konfigurasi umum
- Pemanas dan/atau pendingin substrat
- E-beam multi-pocket dengan evaporator termal dan sumber ion.
- Konfigurasi substrat palet, kubah, atau planet untuk satu atau beberapa sampel
- Pistol multi-sputter dalam konfigurasi konfokal atau tatap muka
UNIVEX 600 |
|
|---|---|
Ukuran ruang |
Lebar: 600 mm Kedalaman: 600 mm Tinggi: 800 mm atau 550 mm (sputter) |
Evaporator termal |
hingga 8 materi |
Evaporator organik |
hingga 8 materi |
Evaporasi sinar elektron |
multi-poket dan/atau saku tunggal, operasi multi-pistol |
Sputtering |
naik atau turun: 4 X 3", 3 X 4", 6 X 2" atau lainnya |
Co-Deposition |
evaporasi dan/atau sputtering |
Kompatibel dengan kunci beban |
opsional |
Deposisi dengan bantuan ion |
opsional |
Ruang suhu air |
ya |
Tingkat vakum |
tengah 10 -7 mbar |
Versi UHV |
opsional |
Kompatibel dengan ruang bersih |
ya |
UNIVEX 900
UNIVEX 900
UNIVEX 900 adalah solusi paling canggih untuk ukuran substrat sedang hingga besar, masing-masing untuk hasil substrat yang lebih tinggi. Substrat/dudukan substrat hingga diameter keseluruhan 800 mm dapat dilapisi. Pengontrol sistem memungkinkan Anda menjalankan proses pelapisan manual, semi-otomatis, dan otomatis sepenuhnya.
Aplikasi umum
- Lapisan optik
- Perangkat optoelektronik
- RAM resistif
- Superkonduktor suhu tinggi
Konfigurasi umum
- Pemanas dan/atau pendingin substrat
- Multi-pocket e-beam dengan sumber ion untuk pre-clean substrat dan deposisi yang dibantu ion
- Konfigurasi substrat palet, kubah, atau planet untuk satu atau beberapa sampel
- Pistol multi-sputter dalam konfigurasi konfokal atau tatap muka
UNIVEX 900 |
|
|---|---|
Ukuran ruang |
Lebar: 900 mm Kedalaman: 900 mm Tinggi: 1100 mm |
Evaporator termal |
hingga 8 materi |
Evaporator organik |
hingga 8 materi |
Evaporasi sinar elektron |
multi-poket dan/atau saku tunggal, operasi multi-pistol |
Sputtering |
opsional |
Co-Deposition |
ya |
Kompatibel dengan kunci beban |
opsional |
Deposisi dengan bantuan ion |
opsional |
Ruang suhu air |
ya |
Tingkat vakum |
tengah 10 -7 mbar |
Versi UHV |
opsional |
Kompatibel dengan ruang bersih |
ya |
UNIVEX 250
Gerbang Anda ke proses pelapisan yang mulus, dirancang khusus untuk universitas, laboratorium, sekolah menengah atas teknis, dan fasilitas R&D industri di seluruh dunia.
UNIVEX 250 menawarkan solusi hemat biaya yang tidak mengorbankan kualitas atau performa, sehingga memastikan Anda mencapai hasil yang akurat dan konsisten. Dengan kontrol intuitif dan pengoperasian yang bebas masalah, produk ini cocok untuk pengguna dari semua tingkatan.
UNIVEX 250 memenuhi berbagai kebutuhan pelapisan, mulai dari metalisasi kontak hingga pencitraan kontras untuk aplikasi mikroskopi dan film tipis.
Desainnya yang kokoh dan performanya yang andal menjadikannya alat bantu penting untuk lingkungan ilmiah atau industri apa pun, memberikan akses yang nyaman, ekstensibilitas modular, dan kemampuan seluler untuk fleksibilitas terbaik.
Penggunaan umum:
- Metalisasi kontak (penguapan emas, perak, kromium, nikel, titanium, dll.)
- Pencitraan kontras untuk mikroskopi (indium, karbon, dll.)
- Solar film tipis
- Tujuan pendidikan di sekolah menengah atas dan universitas
Konfigurasi:
- Evaporasi Termal
- Evaporasi Sinar E
- Sputtering
| UNIVEX 250 | |
|---|---|
| Ukuran ruang | lebar: 270 mm, kedalaman: 370 mm, tinggi: 400 mm |
| Ukuran keseluruhan | lebar: 1400 mm, kedalaman: 950 mm, tinggi: 1800 mm |
| Evaporator termal | hingga 4 bahan |
| Evaporator organik | hingga 4 bahan |
| Evaporasi sinar elektron | multi saku atau saku tunggal |
| Sputtering | hingga 2 x 2" sumber |
| Co-Deposition | evaporasi dan/atau sputtering dapat terjadi |
| Sistem kontrol | PLC dengan monitor |
| Sensor ketebalan film | Kristal kuarsa |
| Tingkat vakum | < 1 E-6 mbar |
| Kompatibel dengan ruang bersih | Ya |
UNIVEX 400
UNIVEX 400 adalah sistem pelapisan ringkas untuk tugas laboratorium, masing-masing menjalankan produksi pilot. Karena dimensi ruangnya, produk ini ideal untuk pelapisan substrat berukuran kecil hingga sedang.
Substrat/dudukan substrat hingga diameter keseluruhan maks. 350 mm dapat dilapisi.
Pengontrol sistem memungkinkan Anda menjalankan proses pelapisan secara manual, semi-otomatis, dan sepenuhnya otomatis.
Aplikasi umum
- Solar film tipis: proses sputtering CdTe, CIGS, CZTS
- Elektronik organik (PV, OLEDS)
- Lapisan optik
- Mikroelektronika
Konfigurasi umum
- E-beam multi-pocket dengan evaporator termal dan sumber ion.
- Hingga empat pistol sputter 2" dalam konfigurasi konfokal untuk sputter naik atau turun
- E-beam dan evaporator organik untuk pembentukan perovskite anorganik-organik
UNIVEX 400 |
|
|---|---|
Ukuran ruang |
lebar: 420 mm, kedalaman: 480 mm, tinggi: 550 mm |
Evaporator termal |
hingga 8 materi |
Evaporator organik |
hingga 8 materi |
Evaporasi sinar elektron |
multi saku atau saku tunggal |
Sputtering |
naik atau turun, 4 X 2", 3 X 3", 2 X 4" atau lainnya |
Co-Deposition |
evaporasi dan/atau sputtering |
Kompatibel dengan kunci beban |
opsional |
Deposisi dengan bantuan ion |
opsional |
Ruang suhu air |
ya |
Tingkat vakum |
tengah 10 -7 mbar |
Versi UHV |
opsional |
Kompatibel dengan ruang bersih |
ya |
UNIVEX 600
UNIVEX 600 adalah sistem pelapisan ringkas untuk laboratorium, masing-masing rangkaian produksi pilot. Karena ukuran ruangnya, produk ini cocok untuk ukuran substrat sedang hingga besar.
Produktivitas substrat yang dapat dicapai memenuhi persyaratan umum untuk produksi seri kecil. Substrat/dudukan substrat hingga maksimal diameter keseluruhan 550 mm dapat dilapisi.
Pengontrol sistem memungkinkan Anda menjalankan proses pelapisan manual, semi-otomatis, dan otomatis sepenuhnya.
Aplikasi umum
- Lapisan optik
- Perangkat optoelektronik
- RAM resistif
- Superkonduktor suhu tinggi
Konfigurasi umum
- Pemanas dan/atau pendingin substrat
- E-beam multi-pocket dengan evaporator termal dan sumber ion.
- Konfigurasi substrat palet, kubah, atau planet untuk satu atau beberapa sampel
- Pistol multi-sputter dalam konfigurasi konfokal atau tatap muka
UNIVEX 600 |
|
|---|---|
Ukuran ruang |
Lebar: 600 mm Kedalaman: 600 mm Tinggi: 800 mm atau 550 mm (sputter) |
Evaporator termal |
hingga 8 materi |
Evaporator organik |
hingga 8 materi |
Evaporasi sinar elektron |
multi-poket dan/atau saku tunggal, operasi multi-pistol |
Sputtering |
naik atau turun: 4 X 3", 3 X 4", 6 X 2" atau lainnya |
Co-Deposition |
evaporasi dan/atau sputtering |
Kompatibel dengan kunci beban |
opsional |
Deposisi dengan bantuan ion |
opsional |
Ruang suhu air |
ya |
Tingkat vakum |
tengah 10 -7 mbar |
Versi UHV |
opsional |
Kompatibel dengan ruang bersih |
ya |
UNIVEX 900
UNIVEX 900 adalah solusi paling canggih untuk ukuran substrat sedang hingga besar, masing-masing untuk hasil substrat yang lebih tinggi. Substrat/dudukan substrat hingga diameter keseluruhan 800 mm dapat dilapisi. Pengontrol sistem memungkinkan Anda menjalankan proses pelapisan manual, semi-otomatis, dan otomatis sepenuhnya.
Aplikasi umum
- Lapisan optik
- Perangkat optoelektronik
- RAM resistif
- Superkonduktor suhu tinggi
Konfigurasi umum
- Pemanas dan/atau pendingin substrat
- Multi-pocket e-beam dengan sumber ion untuk pre-clean substrat dan deposisi yang dibantu ion
- Konfigurasi substrat palet, kubah, atau planet untuk satu atau beberapa sampel
- Pistol multi-sputter dalam konfigurasi konfokal atau tatap muka
UNIVEX 900 |
|
|---|---|
Ukuran ruang |
Lebar: 900 mm Kedalaman: 900 mm Tinggi: 1100 mm |
Evaporator termal |
hingga 8 materi |
Evaporator organik |
hingga 8 materi |
Evaporasi sinar elektron |
multi-poket dan/atau saku tunggal, operasi multi-pistol |
Sputtering |
opsional |
Co-Deposition |
ya |
Kompatibel dengan kunci beban |
opsional |
Deposisi dengan bantuan ion |
opsional |
Ruang suhu air |
ya |
Tingkat vakum |
tengah 10 -7 mbar |
Versi UHV |
opsional |
Kompatibel dengan ruang bersih |
ya |
- Toko Online
- Dokumen
