Pelapis kotak Univex untuk deposisi film tipis dalam R&D dan produksi prototipe 11 Mei 2021
3 MIN READ
Kemampuan untuk menyimpan lapisan tipis berkualitas tinggi, seragam, dan koheren sangat penting untuk pengembangan perangkat baru di banyak pasar. Contohnya mencakup sektor elektronik, semikonduktor, optik, display, dan medis.
Bagaimana kami dapat mendukung deposisi film tipis
Rangkaian sistem pelapis kotak Leybold terdiri dari sistem pelapis Univex 250, 350, 450, 600, dan 900. Tingkat masuk 250 dapat menerima substrat hingga 220mm dan menawarkan solusi hemat biaya untuk pasar R&D. Dimensinya yang kecil memungkinkan ruang, jika diperlukan, dipasang di atas meja - ideal untuk lingkungan laboratorium. Sebagai alternatif, ruang dapat disuplai dalam rangka mandiri.
Anggota keluarga Univex yang lebih besar menawarkan kemungkinan penanganan substrat yang lebih besar, sehingga dapat diterapkan untuk produksi prototipe. 900 adalah ruang terbesar dalam rangkaian ini dan dapat mengakomodasi substrat hingga 800mm. Jajaran lengkap coater menawarkan proses deposisi manual dan terkontrol melalui sistem PLC.
Sistem pelapisan Univex satu ruang Leybold menawarkan sejumlah sumber deposisi yang dikombinasikan dengan sumber daya yang sesuai. Teknik deposisi terdiri dari:
Penguapan termal
Sputtering
Evaporasi sinar elektron
Fleksibilitas desain memungkinkan beberapa sumber deposisi dipasang dalam satu ruang proses.
Sistem vakum juga fleksibel, sehingga memungkinkan sistem pelapisan yang disesuaikan. Coater Univex 250 biasanya dipasok dengan Leybold Turbovaci 350i yang dikombinasikan dengan pompa rotary vane kecil seperti SV10. Namun, opsi lain tersedia termasuk pompa vakum awal kering dan pompa kriogenik.
Pompa Turbomolekuler Leybold TURBOVAC 350i
Pilihan teknik deposisi tergantung pada aplikasi dan persyaratan material tertentu.
Sistem evaporasi termal adalah pendekatan sederhana dan hemat biaya untuk menyimpan berbagai materi. Pilihan suhu tinggi memungkinkan deposisi logam cair yang lebih rendah yang umum digunakan untuk aplikasi kontak listrik. Sumber suhu rendah juga ditawarkan untuk menghasilkan lapisan organik tipis.
Opsi sputtering memungkinkan deposisi logam dengan titik lebur yang lebih tinggi yang tidak dapat dicapai dengan teknik termal. Ion argon berenergi tinggi yang dihasilkan dalam plasma menyerang material target yang tersemprot dari permukaan dan disimpan pada substrat uji.
Teknik sputter memberikan tingkat keseragaman film yang tinggi. Selain itu, lapisan dengan densitas lebih tinggi dicapai dibandingkan dengan pendekatan termal. Alat ini banyak digunakan untuk perangkat optik.
Evaporasi sinar elektron adalah teknik termal lainnya. Elektron energik membentur bahan sumber, sehingga menyebabkan penguapan logam dengan titik lebur tinggi yang tidak mungkin dilakukan dengan teknik termal murni yang dikombinasikan dengan peningkatan deposisi dibandingkan dengan teknik termal.
Pilihan sumber deposisi dapat dipilih untuk memenuhi persyaratan individu.
Untuk sampel yang peka terhadap udara, penambahan kotak sarung tangan dimungkinkan untuk versi 250. Ruang yang lebih besar tersedia, yaitu 350 dan 450, untuk mengakomodasi substrat berdiameter lebih besar.
Untuk pelapisan film tipis yang akurat dan dapat diulang, Leybold juga menyediakan pemantauan ketebalan film menggunakan teknologi kristal kuarsa. Produk ini dapat memantau satu jenis film atau dengan penambahan beberapa pengukuran head deposisi film berurutan. Film juga dapat disimpan secara otomatis dengan pilihan pengontrol ketebalan yang diinginkan - Ideal untuk aplikasi prototipe
Kesimpulan
- Rangkaian sistem pelapis Univex mencakup persyaratan R&D dan produksi prototipe
- Pilihan ukuran ruang memungkinkan substrat mulai dari 220mm hingga 800mm untuk ditampung
- Berbagai pilihan pemompaan tersedia
- Kotak sarung tangan dapat ditambahkan untuk sampel peka udara
- Loadlock dapat ditambahkan untuk meningkatkan throughput
- Monitor Ketebalan Film menawarkan pelapisan yang akurat dan dapat diulang
