Boîte à gants UNIVEX G

Chargement et revêtement de substrats sensibles à l'humidité et à l'oxygène dans un environnement inerte

Notre système de boîte à gants standard permet de charger et de recouvrir des substrats sensibles à l'humidité et à l'oxygène dans l'environnement inerte d'une boîte à gants.

Les systèmes UNIVEX G sont dotés d'une porte coulissante avant pour la connexion à la boîte à gants. Cette porte coulissante permet à l'opérateur d'accéder facilement à la chambre de traitement via la boîte à gants. Si un accès direct est nécessaire, l'UNIVEX G dispose d'une deuxième porte à l'arrière.

Applications courantes

Métallisation des contacts (évaporation de l'or, de l'argent, du chrome, du nickel, du titane, etc.)
Biocapteurs/dispositifs médicaux
Electronique organique : OLED, photovoltaïque organique
Points quantiques/écrans
Evaporateurs à faisceau d'électrons et organiques pour la formation de pérovskite organique/inorganique

Accès direct et facile à l'équipement de traitement via la porte coulissante latérale avant

Accès pratique pour l'entretien via la porte à charnière à l'arrière

Intégration de tous les composants de processus

UNIVEX G 250
UNIVEX G 350
UNIVEX G 450

UNIVEX G 250

The UNIVEX G 250 is a convenient and cost-effective solution for coating tasks requiring not much space.

Substrates, respectively substrate holders up to an overall diameter of approximately 220 mm can be processed.

	G 250
Dimensions de la chambre	Largeur : 270 mm, profondeur : 370 mm, hauteur : 400 mm
Evaporateur thermique	jusqu'à 4 matériaux
Evaporateur organique	jusqu'à 4 matériaux
Evaporation par faisceau d'électrons	poches multiples ou poche unique
Pulvérisation	haut ou bas, 2 x 2"
Dépôt simultané	évaporation et/ou pulvérisation
Compatible avec sas de charge	en option
Niveau de vide	moyen, 10^-7 mbar
Compatible avec les salles blanches	oui

UNIVEX G 350

The UNIVEX G 350 combines a compact design with plenty of chamber space.

For many coating tasks the UNIVEX G 350 offers optimum space conditions and convenient access to process components and substrate processing.

Substrates, respectively substrate holders up to an overall diameter of approximately 300 mm can be processed.

	G 350
dimensions de la chambre	Largeur : 370 mm, profondeur : 390 mm, hauteur : 500 mm
évaporateur thermique	jusqu'à 8 matériaux
évaporateur organique	Jusqu'à 4 matériaux
évaporation par faisceau d'électrons	Poches multiples et/ou poche unique
pulvérisation	Vers le haut ou le bas : 3 pistolets de 2" ou 2 pistolets de 3"
Dépôt simultané	Evaporation et/ou pulvérisation
compatible avec sas de charge	en option
Dépôt assisté par faisceau d'ions	en option
niveau de vide	moyen, 10^-7 mbar
compatible avec les salles blanches	oui

UNIVEX G 450

Owing to its chamber dimensions, the UNIVEX G 450 is suited for all coating tasks requiring much space. Substrates, respectively substrate holders up to an overall diameter of over 400 mm can be processed. With a height of 650 mm, the vacuum chamber is also suited for lift-off applications.

	G 450
dimensions de la chambre	Largeur : 500 mm, profondeur : 500 mm, hauteur : 650 mm
évaporateur thermique	Jusqu'à 8 matériaux
évaporateur organique	Jusqu'à 8 matériaux
évaporation par faisceau d'électrons	Poches multiples et/ou poche unique
pulvérisation	Vers le haut ou le bas : 3 x 3", 2 x 4", 4 x 2" ou autre
Dépôt simultané	Evaporation et/ou pulvérisation
compatible avec sas de charge	en option
Dépôt assisté par faisceau d'ions	en option
niveau de vide	moyen, 10^-7 mbar
compatible avec les salles blanches	oui

UNIVEX G 250

The UNIVEX G 250 is a convenient and cost-effective solution for coating tasks requiring not much space.

Substrates, respectively substrate holders up to an overall diameter of approximately 220 mm can be processed.

	G 250
Dimensions de la chambre	Largeur : 270 mm, profondeur : 370 mm, hauteur : 400 mm
Evaporateur thermique	jusqu'à 4 matériaux
Evaporateur organique	jusqu'à 4 matériaux
Evaporation par faisceau d'électrons	poches multiples ou poche unique
Pulvérisation	haut ou bas, 2 x 2"
Dépôt simultané	évaporation et/ou pulvérisation
Compatible avec sas de charge	en option
Niveau de vide	moyen, 10^-7 mbar
Compatible avec les salles blanches	oui

UNIVEX G 350

The UNIVEX G 350 combines a compact design with plenty of chamber space.

For many coating tasks the UNIVEX G 350 offers optimum space conditions and convenient access to process components and substrate processing.

Substrates, respectively substrate holders up to an overall diameter of approximately 300 mm can be processed.

	G 350
dimensions de la chambre	Largeur : 370 mm, profondeur : 390 mm, hauteur : 500 mm
évaporateur thermique	jusqu'à 8 matériaux
évaporateur organique	Jusqu'à 4 matériaux
évaporation par faisceau d'électrons	Poches multiples et/ou poche unique
pulvérisation	Vers le haut ou le bas : 3 pistolets de 2" ou 2 pistolets de 3"
Dépôt simultané	Evaporation et/ou pulvérisation
compatible avec sas de charge	en option
Dépôt assisté par faisceau d'ions	en option
niveau de vide	moyen, 10^-7 mbar
compatible avec les salles blanches	oui

UNIVEX G 450

	G 450
dimensions de la chambre	Largeur : 500 mm, profondeur : 500 mm, hauteur : 650 mm
évaporateur thermique	Jusqu'à 8 matériaux
évaporateur organique	Jusqu'à 8 matériaux
évaporation par faisceau d'électrons	Poches multiples et/ou poche unique
pulvérisation	Vers le haut ou le bas : 3 x 3", 2 x 4", 4 x 2" ou autre
Dépôt simultané	Evaporation et/ou pulvérisation
compatible avec sas de charge	en option
Dépôt assisté par faisceau d'ions	en option
niveau de vide	moyen, 10^-7 mbar
compatible avec les salles blanches	oui

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