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Chargement et revêtement de substrats sensibles à l'humidité et à l'oxygène dans un environnement inerte
Notre système de boîte à gants standard permet de charger et de recouvrir des substrats sensibles à l'humidité et à l'oxygène dans l'environnement inerte d'une boîte à gants.
Les systèmes UNIVEX G sont dotés d'une porte coulissante avant pour la connexion à la boîte à gants. Cette porte coulissante permet à l'opérateur d'accéder facilement à la chambre de traitement via la boîte à gants. Si un accès direct est nécessaire, l'UNIVEX G dispose d'une deuxième porte à l'arrière.
Applications courantes
Accès direct et facile à l'équipement de traitement via la porte coulissante latérale avant
Accès pratique pour l'entretien via la porte à charnière à l'arrière
Intégration de tous les composants de processus
The UNIVEX G 250 is a convenient and cost-effective solution for coating tasks requiring not much space.
Substrates, respectively substrate holders up to an overall diameter of approximately 220 mm can be processed.
G 250 |
|
---|---|
Dimensions de la chambre |
Largeur : 270 mm, profondeur : 370 mm, hauteur : 400 mm |
Evaporateur thermique |
jusqu'à 4 matériaux |
Evaporateur organique |
jusqu'à 4 matériaux |
Evaporation par faisceau d'électrons |
poches multiples ou poche unique |
Pulvérisation |
haut ou bas, 2 x 2" |
Dépôt simultané |
évaporation et/ou pulvérisation |
Compatible avec sas de charge |
en option |
Niveau de vide |
moyen, 10-7 mbar |
Compatible avec les salles blanches |
oui |
The UNIVEX G 350 combines a compact design with plenty of chamber space.
For many coating tasks the UNIVEX G 350 offers optimum space conditions and convenient access to process components and substrate processing.
Substrates, respectively substrate holders up to an overall diameter of approximately 300 mm can be processed.
G 350 |
|
---|---|
dimensions de la chambre |
Largeur : 370 mm, profondeur : 390 mm, hauteur : 500 mm |
évaporateur thermique |
jusqu'à 8 matériaux |
évaporateur organique |
Jusqu'à 4 matériaux |
évaporation par faisceau d'électrons |
Poches multiples et/ou poche unique |
pulvérisation |
Vers le haut ou le bas : 3 pistolets de 2" ou 2 pistolets de 3" |
Dépôt simultané |
Evaporation et/ou pulvérisation |
compatible avec sas de charge |
en option |
Dépôt assisté par faisceau d'ions |
en option |
niveau de vide |
moyen, 10-7 mbar |
compatible avec les salles blanches |
oui |
Owing to its chamber dimensions, the UNIVEX G 450 is suited for all coating tasks requiring much space. Substrates, respectively substrate holders up to an overall diameter of over 400 mm can be processed. With a height of 650 mm, the vacuum chamber is also suited for lift-off applications.
G 450 |
|
---|---|
dimensions de la chambre |
Largeur : 500 mm, profondeur : 500 mm, hauteur : 650 mm |
évaporateur thermique |
Jusqu'à 8 matériaux |
évaporateur organique |
Jusqu'à 8 matériaux |
évaporation par faisceau d'électrons |
Poches multiples et/ou poche unique |
pulvérisation |
Vers le haut ou le bas : 3 x 3", 2 x 4", 4 x 2" ou autre |
Dépôt simultané |
Evaporation et/ou pulvérisation |
compatible avec sas de charge |
en option |
Dépôt assisté par faisceau d'ions |
en option |
niveau de vide |
moyen, 10-7 mbar |
compatible avec les salles blanches |
oui |
The UNIVEX G 250 is a convenient and cost-effective solution for coating tasks requiring not much space.
Substrates, respectively substrate holders up to an overall diameter of approximately 220 mm can be processed.
G 250 |
|
---|---|
Dimensions de la chambre |
Largeur : 270 mm, profondeur : 370 mm, hauteur : 400 mm |
Evaporateur thermique |
jusqu'à 4 matériaux |
Evaporateur organique |
jusqu'à 4 matériaux |
Evaporation par faisceau d'électrons |
poches multiples ou poche unique |
Pulvérisation |
haut ou bas, 2 x 2" |
Dépôt simultané |
évaporation et/ou pulvérisation |
Compatible avec sas de charge |
en option |
Niveau de vide |
moyen, 10-7 mbar |
Compatible avec les salles blanches |
oui |
The UNIVEX G 350 combines a compact design with plenty of chamber space.
For many coating tasks the UNIVEX G 350 offers optimum space conditions and convenient access to process components and substrate processing.
Substrates, respectively substrate holders up to an overall diameter of approximately 300 mm can be processed.
G 350 |
|
---|---|
dimensions de la chambre |
Largeur : 370 mm, profondeur : 390 mm, hauteur : 500 mm |
évaporateur thermique |
jusqu'à 8 matériaux |
évaporateur organique |
Jusqu'à 4 matériaux |
évaporation par faisceau d'électrons |
Poches multiples et/ou poche unique |
pulvérisation |
Vers le haut ou le bas : 3 pistolets de 2" ou 2 pistolets de 3" |
Dépôt simultané |
Evaporation et/ou pulvérisation |
compatible avec sas de charge |
en option |
Dépôt assisté par faisceau d'ions |
en option |
niveau de vide |
moyen, 10-7 mbar |
compatible avec les salles blanches |
oui |
Owing to its chamber dimensions, the UNIVEX G 450 is suited for all coating tasks requiring much space. Substrates, respectively substrate holders up to an overall diameter of over 400 mm can be processed. With a height of 650 mm, the vacuum chamber is also suited for lift-off applications.
G 450 |
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---|---|
dimensions de la chambre |
Largeur : 500 mm, profondeur : 500 mm, hauteur : 650 mm |
évaporateur thermique |
Jusqu'à 8 matériaux |
évaporateur organique |
Jusqu'à 8 matériaux |
évaporation par faisceau d'électrons |
Poches multiples et/ou poche unique |
pulvérisation |
Vers le haut ou le bas : 3 x 3", 2 x 4", 4 x 2" ou autre |
Dépôt simultané |
Evaporation et/ou pulvérisation |
compatible avec sas de charge |
en option |
Dépôt assisté par faisceau d'ions |
en option |
niveau de vide |
moyen, 10-7 mbar |
compatible avec les salles blanches |
oui |