Systèmes de revêtement UNIVEX Box

Nos systèmes de revêtement compacts de type caisson permettent un accès direct à la chambre de traitement. Les systèmes de revêtement Leybold UNIVEX Box sont définis par la taille de leur chambre.

Boutique en ligne

Conception modulaire du système

Chambre à vide polyvalente

Accès pratique à tous les équipements installés

Plusieurs techniques de dépôt dans la même chambre

Compatible avec les salles blanches

UNIVEX 250
UNIVEX 400
UNIVEX 600
UNIVEX 900

UNIVEX 250

Our compact box coating systems allow direct access to the process chamber. Leybold UNIVEX Box coating systems are defined by their chamber size.

Owing to its low height of only approximately 1.2 meters it is ideally placed on a benchtop. Substrates up to a max. overall diameter of 220 mm can be coated.

The system controller allows you to run manual, respectively semi-automatic coating processes.

Common applications:

Contact metallization (evaporation of gold, silver, chromium, nickel, titanium, etc.)
Contrast imaging for microscopy (indium, carbon, etc.)
Thin film solar

Typical configurations

Multi-pocket e-beam with thermal evaporator
Up to two 2” sputter guns in confocal configuration for sputter up

	UNIVEX 250
Dimensions de la chambre	largeur : 270 mm, profondeur : 370 mm, hauteur : 400 mm
Evaporateur thermique	jusqu'à 4 matériaux
Evaporateur organique	jusqu'à 4 matériaux
Evaporation par faisceau d'électrons	poches multiples ou poche unique
Pulvérisation	haut ou bas, 2 x 2"
Dépôt simultané	évaporation et/ou pulvérisation
Compatible avec sas de charge	en option
Chambre à eau tiède	en option
Niveau de vide	moyen, 10^-7 mbar
Compatible avec les salles blanches	oui

UNIVEX 400

The UNIVEX 400 is a compact coating system for laboratory tasks, respectively pilot production runs. Due to its chamber dimensions, it is ideal for coating of small to medium sized substrates.

Substrates / substrate holders up to an overall diameter of max. 350 mm can be coated.

The system controller allows you to run manual, semiautomatic and fully automatic coating processes.

Common applications

Thin film solar: CdTe, CIGS, CZTS sputtered processes
Organic electronics (PV, OLEDS)
Optical coatings
Microelectronics

Typical configurations

Multi-pocket e-beam with thermal evaporator and ion source.
Up to four 2” sputter guns in confocal configuration for sputter up or down
E-beam and organics evaporators for inorganic-organic perovskite formation

	UNIVEX 400
Dimensions de la chambre	largeur : 420 mm, profondeur : 480 mm, hauteur : 550 mm
Evaporateur thermique	jusqu'à 8 matériaux
Evaporateur organique	jusqu'à 8 matériaux
Evaporation par faisceau d'électrons	poches multiples ou poche unique
Pulvérisation	vers le haut ou le bas, 4 x 2", 3 x 3", 2 x 4" ou autre
Dépôt simultané	évaporation et/ou pulvérisation
Compatible avec sas de charge	en option
Dépôt assisté par faisceau d'ions	en option
Chambre à eau tiède	oui
Niveau de vide	moyen, 10^-7 mbar
Version UHV	en option
Compatible avec les salles blanches	oui

UNIVEX 600

The UNIVEX 600 is a compact coating system for the laboratory, respectively pilot production runs. Because of its chamber size it is suited for medium to large substrate sizes.

The attainable substrate throughput meets the general requirements for small series production runs. Substrates / substrate holders up to a max. overall diameter of 550 mm can be coated.

The system controller allows you to run manual, semi-automatic and fully automated coating processes.

Common applications

Optical coatings
Opto-electronic devices
Resistive RAM
High-temperature superconductors

Typical configurations

Substrate heaters and/or coolers
Multi-pocket e-beam with thermal evaporator and ion source.
Palette, domed or planetary substrate configurations for single or multiple samples
Multiple-sputter guns in confocal or face-to-face configuration

	UNIVEX 600
Dimensions de la chambre	Largeur : 600 mm, profondeur : 600 mm, hauteur : 800 mm ou 550 mm (pulvérisation)
Evaporateur thermique	jusqu'à 8 matériaux
Evaporateur organique	jusqu'à 8 matériaux
Evaporation par faisceau d'électrons	poches multiples et/ou poche unique, fonctionnement avec plusieurs pistolets
Pulvérisation	vers le haut ou le bas : 4 x 3", 3 x 4", 6 x 2" ou autre
Dépôt simultané	évaporation et/ou pulvérisation
Compatible avec sas de charge	en option
Dépôt assisté par faisceau d'ions	en option
Chambre à eau tiède	oui
Niveau de vide	moyen, 10^-7mbar
Version UHV	en option
Compatible avec les salles blanches	oui

UNIVEX 900

The UNIVEX 900 is the most sophisticated solution for medium to large substrate sizes, respectively for higher substrate throughputs. Substrates / substrate holders up to an overall diameter of 800 mm can be coated. The system controller allows you to run manual, semi-automatic and fully automated coating processes.

Common applications

Optical coatings
Opto-electronic devices
Resistive RAM
High-temperature superconductors

Typical configurations

Substrate heaters and/or coolers
Multi-pocket e-beam with ion-sources for substrate pre-clean and ion-assisted deposition
Palette, domed or planetary substrate configurations for single or multiple samples
Multiple-sputter guns in confocal or face-to-face configuration

	UNIVEX 900
Dimensions de la chambre	Largeur : 900 mm, profondeur : 900 mm, hauteur : 1 100 mm
Evaporateur thermique	jusqu'à 8 matériaux
Evaporateur organique	jusqu'à 8 matériaux
Evaporation par faisceau d'électrons	poches multiples et/ou poche unique, fonctionnement avec plusieurs pistolets
Pulvérisation	en option
Dépôt simultané	oui
Compatible avec sas de charge	en option
Dépôt assisté par faisceau d'ions	en option
Chambre à eau tiède	oui
Niveau de vide	moyen, 10^-7 mbar
Version UHV	en option
Compatible avec les salles blanches	oui

UNIVEX 250

Our compact box coating systems allow direct access to the process chamber. Leybold UNIVEX Box coating systems are defined by their chamber size.

Owing to its low height of only approximately 1.2 meters it is ideally placed on a benchtop. Substrates up to a max. overall diameter of 220 mm can be coated.

The system controller allows you to run manual, respectively semi-automatic coating processes.

Common applications:

Contact metallization (evaporation of gold, silver, chromium, nickel, titanium, etc.)
Contrast imaging for microscopy (indium, carbon, etc.)
Thin film solar

Typical configurations

Multi-pocket e-beam with thermal evaporator
Up to two 2” sputter guns in confocal configuration for sputter up

	UNIVEX 250
Dimensions de la chambre	largeur : 270 mm, profondeur : 370 mm, hauteur : 400 mm
Evaporateur thermique	jusqu'à 4 matériaux
Evaporateur organique	jusqu'à 4 matériaux
Evaporation par faisceau d'électrons	poches multiples ou poche unique
Pulvérisation	haut ou bas, 2 x 2"
Dépôt simultané	évaporation et/ou pulvérisation
Compatible avec sas de charge	en option
Chambre à eau tiède	en option
Niveau de vide	moyen, 10^-7 mbar
Compatible avec les salles blanches	oui

UNIVEX 400

The UNIVEX 400 is a compact coating system for laboratory tasks, respectively pilot production runs. Due to its chamber dimensions, it is ideal for coating of small to medium sized substrates.

Substrates / substrate holders up to an overall diameter of max. 350 mm can be coated.

The system controller allows you to run manual, semiautomatic and fully automatic coating processes.

Common applications

Thin film solar: CdTe, CIGS, CZTS sputtered processes
Organic electronics (PV, OLEDS)
Optical coatings
Microelectronics

Typical configurations

Multi-pocket e-beam with thermal evaporator and ion source.
Up to four 2” sputter guns in confocal configuration for sputter up or down
E-beam and organics evaporators for inorganic-organic perovskite formation

	UNIVEX 400
Dimensions de la chambre	largeur : 420 mm, profondeur : 480 mm, hauteur : 550 mm
Evaporateur thermique	jusqu'à 8 matériaux
Evaporateur organique	jusqu'à 8 matériaux
Evaporation par faisceau d'électrons	poches multiples ou poche unique
Pulvérisation	vers le haut ou le bas, 4 x 2", 3 x 3", 2 x 4" ou autre
Dépôt simultané	évaporation et/ou pulvérisation
Compatible avec sas de charge	en option
Dépôt assisté par faisceau d'ions	en option
Chambre à eau tiède	oui
Niveau de vide	moyen, 10^-7 mbar
Version UHV	en option
Compatible avec les salles blanches	oui

UNIVEX 600

The UNIVEX 600 is a compact coating system for the laboratory, respectively pilot production runs. Because of its chamber size it is suited for medium to large substrate sizes.

The attainable substrate throughput meets the general requirements for small series production runs. Substrates / substrate holders up to a max. overall diameter of 550 mm can be coated.

The system controller allows you to run manual, semi-automatic and fully automated coating processes.

Common applications

Optical coatings
Opto-electronic devices
Resistive RAM
High-temperature superconductors

Typical configurations

Substrate heaters and/or coolers
Multi-pocket e-beam with thermal evaporator and ion source.
Palette, domed or planetary substrate configurations for single or multiple samples
Multiple-sputter guns in confocal or face-to-face configuration

	UNIVEX 600
Dimensions de la chambre	Largeur : 600 mm, profondeur : 600 mm, hauteur : 800 mm ou 550 mm (pulvérisation)
Evaporateur thermique	jusqu'à 8 matériaux
Evaporateur organique	jusqu'à 8 matériaux
Evaporation par faisceau d'électrons	poches multiples et/ou poche unique, fonctionnement avec plusieurs pistolets
Pulvérisation	vers le haut ou le bas : 4 x 3", 3 x 4", 6 x 2" ou autre
Dépôt simultané	évaporation et/ou pulvérisation
Compatible avec sas de charge	en option
Dépôt assisté par faisceau d'ions	en option
Chambre à eau tiède	oui
Niveau de vide	moyen, 10^-7mbar
Version UHV	en option
Compatible avec les salles blanches	oui

UNIVEX 900

Common applications

Optical coatings
Opto-electronic devices
Resistive RAM
High-temperature superconductors

Typical configurations

Substrate heaters and/or coolers
Multi-pocket e-beam with ion-sources for substrate pre-clean and ion-assisted deposition
Palette, domed or planetary substrate configurations for single or multiple samples
Multiple-sputter guns in confocal or face-to-face configuration

	UNIVEX 900
Dimensions de la chambre	Largeur : 900 mm, profondeur : 900 mm, hauteur : 1 100 mm
Evaporateur thermique	jusqu'à 8 matériaux
Evaporateur organique	jusqu'à 8 matériaux
Evaporation par faisceau d'électrons	poches multiples et/ou poche unique, fonctionnement avec plusieurs pistolets
Pulvérisation	en option
Dépôt simultané	oui
Compatible avec sas de charge	en option
Dépôt assisté par faisceau d'ions	en option
Chambre à eau tiède	oui
Niveau de vide	moyen, 10^-7 mbar
Version UHV	en option
Compatible avec les salles blanches	oui

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