Sistema glovebox UNIVEX G

Caricamento e rivestimento di substrati sensibili all'umidità e all'ossigeno in un ambiente inerte

Il nostro sistema glovebox standard consente il caricamento e il rivestimento di substrati sensibili all'umidità e all'ossigeno nell'ambiente inerte di un glovebox.

I sistemi UNIVEX G sono dotati di uno sportello scorrevole anteriore per il collegamento al glovebox. Questo sportello scorrevole consente all'operatore di accedere facilmente alla camera di processo tramite il glovebox. In caso di accesso diretto, la UNIVEX G ha un secondo sportello posteriore.

Applicazioni comuni

Metallizzazione dei contatti (evaporazione di oro, argento, cromo, nichel, titanio, ecc.)
Biosensori/dispositivi medici
Elettronica organica: OLED, fotovoltaica organica
Punti quantistici/display
Evaporatori con fascio di elettroni e sostanze organiche per la formazione di perovskite inorganica-organica

Accesso diretto e semplice alle apparecchiature di processo tramite lo sportello scorrevole anteriore

Comodo accesso per la manutenzione tramite sportello incernierato sul retro

Integrazione di qualsiasi componente di processo

UNIVEX G 250
UNIVEX G 350
UNIVEX G 450

UNIVEX G 250

UNIVEX G 250 è una soluzione pratica e conveniente per attività di rivestimento che richiedono poco spazio.

È possibile lavorare substrati, supporti del substrato relativi fino a un diametro approssimato di 220 mm.

	G 250
Chamber size	Width 270 mm Depth 370 mm Height 400 mm
Thermal evaporator	up to 4 materials
Organic evaporator	up to 4 materials
E-beam evaporation	multi-pocket or single pocket
Sputtering	up or down, 2 x 2"
Co-Deposition	evaporation and/or sputtering
Load lock compatible	optional
Vacuum level	mid 10^-7 mbar
Cleanroom compatible	yes

UNIVEX G 350

UNIVEX G 350 combina un design compatto con un ampio spazio nella camera.

Per molte attività di rivestimento, UNIVEX G 350 offre condizioni di spazio ottimali e un comodo accesso ai componenti di processo e alla lavorazione del substrato.

È possibile lavorare substrati, supporti del substrato relativi fino a un diametro approssimato di 300 mm.

	G 350
chamber size	Width: 370 mm Depth: 390 mm Height: 500 mm
thermal evaporator	up to 8 materials
organic evaporator	Up to 4 materials
e-beam evaporation	Multi-pocket and/or single pocket
sputtering	Up or down: 3 X 2” guns, or 2 X 3” guns
Co-Deposition	Evaporation and/or sputtering
load lock compatible	optional
Ion assisted deposition	optional
vacuum level	mid 10^-7 mbar
cleanroom compatible	yes

UNIVEX G 450

Grazie alle dimensioni della camera, l'unità UNIVEX G 450 è adatta per tutte le attività di rivestimento che richiedono molto spazio. È possibile trattare substrati con i rispettivi supporti del substrato fino a un diametro totale superiore a 400 mm. Con un'altezza di 650 mm, la camera per vuoto è adatta anche per applicazioni di sollevamento.

	G 450
chamber size	Width: 500 mm Depth: 500 mm Height: 650 mm
thermal evaporator	Up to 8 materials
organic evaporator	Up to 8 materials
e-beam evaporation	Multi-pocket and/or single pocket
sputtering	Up or down: 3 X 3”, 2 X 4”, 4 X 2” or other
Co-Deposition	Evaporation and/or sputtering
load lock compatible	optional
Ion assisted deposition	optional
vacuum level	mid 10^-7 mbar
cleanroom compatible	yes

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