Sistema glovebox UNIVEX G
Caricamento e rivestimento di substrati sensibili all'umidità e all'ossigeno in un ambiente inerte
Il nostro sistema glovebox standard consente il caricamento e il rivestimento di substrati sensibili all'umidità e all'ossigeno nell'ambiente inerte di un glovebox.
I sistemi UNIVEX G sono dotati di uno sportello scorrevole anteriore per il collegamento al glovebox. Questo sportello scorrevole consente all'operatore di accedere facilmente alla camera di processo tramite il glovebox. In caso di accesso diretto, la UNIVEX G ha un secondo sportello posteriore.
Applicazioni comuni
- Metallizzazione dei contatti (evaporazione di oro, argento, cromo, nichel, titanio, ecc.)
- Biosensori/dispositivi medici
- Elettronica organica: OLED, fotovoltaica organica
- Punti quantistici/display
- Evaporatori con fascio di elettroni e sostanze organiche per la formazione di perovskite inorganica-organica
- UNIVEX G 250
- UNIVEX G 350
- UNIVEX G 450
UNIVEX G 250
UNIVEX G 250
UNIVEX G 250 è una soluzione pratica e conveniente per attività di rivestimento che richiedono poco spazio.
È possibile lavorare substrati, supporti del substrato relativi fino a un diametro approssimato di 220 mm.
G 250 |
|
|---|---|
Dimensioni della camera |
Larghezza 270 mm Profondità 370 mm Altezza 400 mm |
Evaporatore termico |
fino a 4 materiali |
Evaporatore organico |
fino a 4 materiali |
Evaporazione a fascio di elettroni |
a tasca multipla o a tasca singola |
Sputtering |
su o giù, 2 x 2" |
Co-deposizione |
evaporazione e/o sputtering |
Compatibile con blocco del carico |
opzionale |
Livello di vuoto |
metà <10-7 mbar |
Compatibile con camere sterili |
sì |
UNIVEX G 350
UNIVEX G 350
UNIVEX G 350 combina un design compatto con un ampio spazio nella camera.
Per molte attività di rivestimento, UNIVEX G 350 offre condizioni di spazio ottimali e un comodo accesso ai componenti di processo e alla lavorazione del substrato.
È possibile lavorare substrati, supporti del substrato relativi fino a un diametro approssimato di 300 mm.
G 350 |
|
|---|---|
dimensioni della camera |
Larghezza: 370 mm Profondità: 390 mm Altezza: 500 mm |
evaporatore termico |
fino a 8 materiali |
evaporatore organico |
Fino a 4 materiali |
evaporazione a fascio di elettroni |
A tasca multipla o a tasca singola |
sputtering |
Su o giù: pistole 3 x 2" o pistole 2 x 3" |
Co-deposizione |
Evaporazione e/o sputtering |
compatibile con blocco del carico |
opzionale |
Deposizione assistita da ioni |
opzionale |
livello di vuoto |
metà <10-7 mbar |
compatibile con camere sterili |
sì |
UNIVEX G 450
UNIVEX G 450
Grazie alle dimensioni della camera, l'unità UNIVEX G 450 è adatta per tutte le attività di rivestimento che richiedono molto spazio. È possibile trattare substrati con i rispettivi supporti del substrato fino a un diametro totale superiore a 400 mm. Con un'altezza di 650 mm, la camera per vuoto è adatta anche per applicazioni di sollevamento.
G 450 |
|
|---|---|
dimensioni della camera |
Larghezza: 500 mm Profondità: 500 mm Altezza: 650 mm |
evaporatore termico |
Fino a 8 materiali |
evaporatore organico |
Fino a 8 materiali |
evaporazione a fascio di elettroni |
A tasca multipla o a tasca singola |
sputtering |
Su o giù: 3 X 3", 2 X 4", 4 X 2" o altro |
Co-deposizione |
Evaporazione e/o sputtering |
compatibile con blocco del carico |
opzionale |
Deposizione assistita da ioni |
opzionale |
livello di vuoto |
metà <10-7 mbar |
compatibile con camere sterili |
sì |
UNIVEX G 250
UNIVEX G 250 è una soluzione pratica e conveniente per attività di rivestimento che richiedono poco spazio.
È possibile lavorare substrati, supporti del substrato relativi fino a un diametro approssimato di 220 mm.
G 250 |
|
|---|---|
Dimensioni della camera |
Larghezza 270 mm Profondità 370 mm Altezza 400 mm |
Evaporatore termico |
fino a 4 materiali |
Evaporatore organico |
fino a 4 materiali |
Evaporazione a fascio di elettroni |
a tasca multipla o a tasca singola |
Sputtering |
su o giù, 2 x 2" |
Co-deposizione |
evaporazione e/o sputtering |
Compatibile con blocco del carico |
opzionale |
Livello di vuoto |
metà <10-7 mbar |
Compatibile con camere sterili |
sì |
UNIVEX G 350
UNIVEX G 350 combina un design compatto con un ampio spazio nella camera.
Per molte attività di rivestimento, UNIVEX G 350 offre condizioni di spazio ottimali e un comodo accesso ai componenti di processo e alla lavorazione del substrato.
È possibile lavorare substrati, supporti del substrato relativi fino a un diametro approssimato di 300 mm.
G 350 |
|
|---|---|
dimensioni della camera |
Larghezza: 370 mm Profondità: 390 mm Altezza: 500 mm |
evaporatore termico |
fino a 8 materiali |
evaporatore organico |
Fino a 4 materiali |
evaporazione a fascio di elettroni |
A tasca multipla o a tasca singola |
sputtering |
Su o giù: pistole 3 x 2" o pistole 2 x 3" |
Co-deposizione |
Evaporazione e/o sputtering |
compatibile con blocco del carico |
opzionale |
Deposizione assistita da ioni |
opzionale |
livello di vuoto |
metà <10-7 mbar |
compatibile con camere sterili |
sì |
UNIVEX G 450
Grazie alle dimensioni della camera, l'unità UNIVEX G 450 è adatta per tutte le attività di rivestimento che richiedono molto spazio. È possibile trattare substrati con i rispettivi supporti del substrato fino a un diametro totale superiore a 400 mm. Con un'altezza di 650 mm, la camera per vuoto è adatta anche per applicazioni di sollevamento.
G 450 |
|
|---|---|
dimensioni della camera |
Larghezza: 500 mm Profondità: 500 mm Altezza: 650 mm |
evaporatore termico |
Fino a 8 materiali |
evaporatore organico |
Fino a 8 materiali |
evaporazione a fascio di elettroni |
A tasca multipla o a tasca singola |
sputtering |
Su o giù: 3 X 3", 2 X 4", 4 X 2" o altro |
Co-deposizione |
Evaporazione e/o sputtering |
compatibile con blocco del carico |
opzionale |
Deposizione assistita da ioni |
opzionale |
livello di vuoto |
metà <10-7 mbar |
compatibile con camere sterili |
sì |
- Negozio online
- Documenti
