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Caricamento e rivestimento di substrati sensibili all'umidità e all'ossigeno in un ambiente inerte
Il nostro sistema glovebox standard consente il caricamento e il rivestimento di substrati sensibili all'umidità e all'ossigeno nell'ambiente inerte di un glovebox.
I sistemi UNIVEX G sono dotati di uno sportello scorrevole anteriore per il collegamento al glovebox. Questo sportello scorrevole consente all'operatore di accedere facilmente alla camera di processo tramite il glovebox. In caso di accesso diretto, la UNIVEX G ha un secondo sportello posteriore.
Applicazioni comuni
Accesso diretto e semplice alle apparecchiature di processo tramite lo sportello scorrevole anteriore
Comodo accesso per la manutenzione tramite sportello incernierato sul retro
Integrazione di qualsiasi componente di processo
UNIVEX G 250 è una soluzione pratica e conveniente per attività di rivestimento che richiedono poco spazio.
È possibile lavorare substrati, supporti del substrato relativi fino a un diametro approssimato di 220 mm.
G 250 |
|
---|---|
Chamber size |
Width 270 mm Depth 370 mm Height 400 mm |
Thermal evaporator |
up to 4 materials |
Organic evaporator |
up to 4 materials |
E-beam evaporation |
multi-pocket or single pocket |
Sputtering |
up or down, 2 x 2" |
Co-Deposition |
evaporation and/or sputtering |
Load lock compatible |
optional |
Vacuum level |
mid 10-7 mbar |
Cleanroom compatible |
yes |
UNIVEX G 350 combina un design compatto con un ampio spazio nella camera.
Per molte attività di rivestimento, UNIVEX G 350 offre condizioni di spazio ottimali e un comodo accesso ai componenti di processo e alla lavorazione del substrato.
È possibile lavorare substrati, supporti del substrato relativi fino a un diametro approssimato di 300 mm.
G 350 |
|
---|---|
chamber size |
Width: 370 mm Depth: 390 mm Height: 500 mm |
thermal evaporator |
up to 8 materials |
organic evaporator |
Up to 4 materials |
e-beam evaporation |
Multi-pocket and/or single pocket |
sputtering |
Up or down: 3 X 2” guns, or 2 X 3” guns |
Co-Deposition |
Evaporation and/or sputtering |
load lock compatible |
optional |
Ion assisted deposition |
optional |
vacuum level |
mid 10-7 mbar |
cleanroom compatible |
yes |
Grazie alle dimensioni della camera, l'unità UNIVEX G 450 è adatta per tutte le attività di rivestimento che richiedono molto spazio. È possibile trattare substrati con i rispettivi supporti del substrato fino a un diametro totale superiore a 400 mm. Con un'altezza di 650 mm, la camera per vuoto è adatta anche per applicazioni di sollevamento.
G 450 |
|
---|---|
chamber size |
Width: 500 mm Depth: 500 mm Height: 650 mm |
thermal evaporator |
Up to 8 materials |
organic evaporator |
Up to 8 materials |
e-beam evaporation |
Multi-pocket and/or single pocket |
sputtering |
Up or down: 3 X 3”, 2 X 4”, 4 X 2” or other |
Co-Deposition |
Evaporation and/or sputtering |
load lock compatible |
optional |
Ion assisted deposition |
optional |
vacuum level |
mid 10-7 mbar |
cleanroom compatible |
yes |