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UNIVEX G 350 glove box

Sistema glovebox UNIVEX G

Caricamento e rivestimento di substrati sensibili all'umidità e all'ossigeno in un ambiente inerte

Il nostro sistema glovebox standard consente il caricamento e il rivestimento di substrati sensibili all'umidità e all'ossigeno nell'ambiente inerte di un glovebox.

I sistemi UNIVEX G sono dotati di uno sportello scorrevole anteriore per il collegamento al glovebox. Questo sportello scorrevole consente all'operatore di accedere facilmente alla camera di processo tramite il glovebox. In caso di accesso diretto, la UNIVEX G ha un secondo sportello posteriore.

Applicazioni comuni 

  • Metallizzazione dei contatti (evaporazione di oro, argento, cromo, nichel, titanio, ecc.)
  • Biosensori/dispositivi medici
  • Elettronica organica: OLED, fotovoltaica organica
  • Punti quantistici/display
  • Evaporatori con fascio di elettroni e sostanze organiche per la formazione di perovskite inorganica-organica

Accesso diretto e semplice alle apparecchiature di processo tramite lo sportello scorrevole anteriore

Comodo accesso per la manutenzione tramite sportello incernierato sul retro

Integrazione di qualsiasi componente di processo

UNIVEX G 250

UNIVEX G 250 è una soluzione pratica e conveniente per attività di rivestimento che richiedono poco spazio.

È possibile lavorare substrati, supporti del substrato relativi fino a un diametro approssimato di 220 mm.

UNIVEX G 250 with electrical cabinet
 

G 250

Chamber size

Width 270 mm   Depth 370 mm Height 400 mm

Thermal evaporator

up to 4 materials

Organic evaporator

up to 4 materials

E-beam evaporation

multi-pocket or single pocket

Sputtering

up or down, 2 x 2"

Co-Deposition

evaporation and/or sputtering

Load lock compatible

optional

Vacuum level

mid 10-7 mbar

Cleanroom compatible

yes

UNIVEX G 350

UNIVEX G 350 combina un design compatto con un ampio spazio nella camera.

Per molte attività di rivestimento, UNIVEX G 350 offre condizioni di spazio ottimali e un comodo accesso ai componenti di processo e alla lavorazione del substrato.

È possibile lavorare substrati, supporti del substrato relativi fino a un diametro approssimato di 300 mm.

UNIVEX Coating Systems
 

G 350

chamber size

Width: 370 mm Depth: 390 mm Height: 500 mm

thermal evaporator

up to 8 materials

organic evaporator

Up to 4 materials

e-beam evaporation

Multi-pocket and/or single pocket

sputtering

Up or down: 3 X 2” guns, or 2 X 3” guns

Co-Deposition

Evaporation and/or sputtering

load lock compatible

optional

Ion assisted deposition

optional

vacuum level

mid 10-7 mbar

cleanroom compatible

yes

UNIVEX G 450

Grazie alle dimensioni della camera, l'unità UNIVEX G 450 è adatta per tutte le attività di rivestimento che richiedono molto spazio. È possibile trattare substrati con i rispettivi supporti del substrato fino a un diametro totale superiore a 400 mm. Con un'altezza di 650 mm, la camera per vuoto è adatta anche per applicazioni di sollevamento.

UNIVEX Coating Systems
 

G 450

chamber size

Width: 500 mm Depth: 500 mm Height: 650 mm

thermal evaporator

Up to 8 materials

organic evaporator

Up to 8 materials

e-beam evaporation

Multi-pocket and/or single pocket

sputtering

Up or down: 3 X 3”, 2 X 4”, 4 X 2” or other

Co-Deposition

Evaporation and/or sputtering

load lock compatible

optional

Ion assisted deposition

optional

vacuum level

mid 10-7 mbar

cleanroom compatible

yes

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