Sistemi di rivestimento per strutture UNIVEX
Definito dalle dimensioni della camera
I nostri sistemi di rivestimento per strutture compatte consentono l'accesso diretto alla camera di processo.
- UNIVEX 250
- UNIVEX 400
- UNIVEX 600
- UNIVEX 900
UNIVEX 250
Il tuo punto di accesso a processi di rivestimento senza interruzioni, progettati appositamente per università, laboratori, scuole superiori e impianti industriali di ricerca e sviluppo in tutto il mondo.
UNIVEX 250 offre una soluzione conveniente che non compromette la qualità o le prestazioni, garantendo risultati precisi e costanti. Grazie ai comandi intuitivi e al funzionamento senza problemi, è perfetto per utenti di tutti i livelli.
UNIVEX 250 soddisfa diverse esigenze di rivestimento, dalla metallizzazione a contatto all'imaging a contrasto per microscopia e applicazioni di pellicole sottili.
Il design robusto e le prestazioni affidabili lo rendono uno strumento essenziale per qualsiasi ambiente scientifico o industriale, che offre comodo accesso, estensibilità modulare e funzionalità mobili per la massima flessibilità.
Applicazioni comuni:
- Metallizzazione dei contatti (evaporazione di oro, argento, cromo, nichel, titanio, ecc.)
- Imaging a contrasto per microscopia (indio, carbonio, ecc.)
- Fotovoltaico a film sottile
- Scopi didattici in scuole superiori e università
Configurazioni:
- Evaporazione termica
- Evaporazione a fascio di elettroni
- Sputtering
UNIVEX 250 |
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|---|---|
Dimensioni della camera |
larghezza: 270 mm, profondità: 370 mm, altezza: 400 mm |
| Dimensioni complessive | larghezza: 1300 mm, profondità: 860 mm, altezza: 1990 mm |
Evaporatore termico |
fino a 4 materiali |
Evaporatore organico |
fino a 4 materiali |
Evaporazione a fascio di elettroni |
a tasca multipla o a tasca singola |
Sputtering |
su o giù, 2 x 2" |
Co-deposizione |
evaporazione e/o sputtering |
| Controllo del sistema | PLC con monitor |
| Sensore dello spessore della pellicola | Cristallo di quarzo |
Compatibile con blocco del carico |
opzionale |
Camera temperata ad acqua |
opzionale |
Livello di vuoto |
metà <10-7 mbar |
Compatibile con camere sterili |
sì |
UNIVEX 400
UNIVEX 400 è un sistema di rivestimento compatto per attività di laboratorio, per cicli di produzione pilota. Grazie alle dimensioni della camera, è ideale per il rivestimento di substrati di piccole e medie dimensioni.
Substrati/supporti del substrato fino a un diametro totale di max 350 mm.
Il controller del sistema consente di eseguire procedure di rivestimento manuali, semiautomatiche e completamente automatiche.
Applicazioni comuni
- Fotovoltaico a film sottile: processi sputtered CdTe, CIGS, CZTS
- Elettronica organica (PV, OLEDS)
- Rivestimenti ottici
- Microelettronica
Configurazioni tipiche
- Fascio di elettroni multi-tasca con evaporatore termico e sorgente di ioni.
- Fino a quattro pistole a sputter da 2" in configurazione confocale per sputter up o down
- Evaporatori con fascio di elettroni e sostanze organiche per la formazione di perovskite inorganica-organica
UNIVEX 400 |
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|---|---|
Dimensioni della camera |
larghezza: 420 mm, profondità: 480 mm, altezza: 550 mm |
Evaporatore termico |
fino a 8 materiali |
Evaporatore organico |
fino a 8 materiali |
Evaporazione a fascio di elettroni |
a tasca multipla o a tasca singola |
Sputtering |
Su o giù, 4 X 2", 3 X 3", 2 X 4" o altro |
Co-deposizione |
evaporazione e/o sputtering |
Compatibile con blocco del carico |
opzionale |
Deposizione assistita da ioni |
opzionale |
Camera temperata ad acqua |
sì |
Livello di vuoto |
metà <10-7 mbar |
Versione UHV |
opzionale |
Compatibile con camere sterili |
sì |
UNIVEX 600
UNIVEX 600 è un sistema di rivestimento compatto da laboratorio, per la produzione pilota. Grazie alle dimensioni della camera, è adatto per substrati di dimensioni medio-grandi.
La resa del substrato ottenibile soddisfa i requisiti generali per la produzione di serie di piccole dimensioni. Substrati/supporti del substrato fino a un diametro totale massimo di 550 mm.
Il controller del sistema consente di eseguire procedure di rivestimento manuali, semiautomatiche e completamente automatiche.
Applicazioni comuni
- Rivestimenti ottici
- Dispositivi optoelettronici
- RAM resistiva
- Superconduttori ad alta temperatura
Configurazioni tipiche
- Riscaldatori e/o refrigeratori del substrato
- Fascio di elettroni multi-tasca con evaporatore termico e sorgente di ioni.
- Configurazioni del substrato a paletta, a cupola o planetario per campioni singoli o multipli
- Pistole a più sputter in configurazione confocale o faccia a faccia
UNIVEX 600 |
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|---|---|
Dimensioni della camera |
Larghezza: 600 mm Profondità: 600 mm Altezza: 800 mm o 550 mm (sputter) |
Evaporatore termico |
fino a 8 materiali |
Evaporatore organico |
fino a 8 materiali |
Evaporazione a fascio di elettroni |
funzionamento a tasca multipla o a tasca singola, con pistola multipla |
Sputtering |
Su o giù: 4 X 3", 3 X 4", 6 X 2" o altro |
Co-deposizione |
evaporazione e/o sputtering |
Compatibile con blocco del carico |
opzionale |
Deposizione assistita da ioni |
opzionale |
Camera temperata ad acqua |
sì |
Livello di vuoto |
metà <10-7 mbar |
Versione UHV |
opzionale |
Compatibile con camere sterili |
sì |
UNIVEX 900
UNIVEX 900 è la soluzione più sofisticata per substrati di dimensioni medio-grandi, rispettivamente per portate superiori del substrato. È possibile rivestire substrati/supporti del substrato fino a un diametro totale di 800 mm. Il controller del sistema consente di eseguire procedure di rivestimento manuali, semiautomatiche e completamente automatiche.
Applicazioni comuni
- Rivestimenti ottici
- Dispositivi optoelettronici
- RAM resistiva
- Superconduttori ad alta temperatura
Configurazioni tipiche
- Riscaldatori e/o refrigeratori del substrato
- Fascio di elettroni multi-tasca con sorgenti di ioni per pre-pulizia del substrato e deposizione assistita da ioni
- Configurazioni del substrato a paletta, a cupola o planetario per campioni singoli o multipli
- Pistole a più sputter in configurazione confocale o faccia a faccia
UNIVEX 900 |
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|---|---|
Dimensioni della camera |
Larghezza: 900 mm Profondità: 900 mm Altezza: 1100 mm |
Evaporatore termico |
fino a 8 materiali |
Evaporatore organico |
fino a 8 materiali |
Evaporazione a fascio di elettroni |
funzionamento a tasca multipla o a tasca singola, con pistola multipla |
Sputtering |
opzionale |
Co-deposizione |
sì |
Compatibile con blocco del carico |
opzionale |
Deposizione assistita da ioni |
opzionale |
Camera temperata ad acqua |
sì |
Livello di vuoto |
metà <10-7 mbar |
Versione UHV |
opzionale |
Compatibile con camere sterili |
sì |
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