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Stadio del substrato TWISTER

Ricerca e sviluppo semplificati

Lo stadio del substrato TWISTER™, completamente realizzato in azienda, rappresenta il passo successivo per integrare una tecnologia innovativa, robusta e affidabile nel tuo impianto UNIVEX o in qualsiasi altra camera di rivestimento che potresti già utilizzare.

Soluzioni su misura per applicazioni specifiche

Al fine di garantire un processo di rivestimento efficace e riproducibile, abbiamo sviluppato uno stadio del substrato ruotabile e riscaldabile, che garantisce omogeneità e qualità del rivestimento eccellenti.

Per soddisfare le diverse esigenze, ti offriamo un sistema modulare composto da tre versioni principali:

  • Base
  • Avanzato
  • Completo

Da cui possiamo ricavare 576 possibili varianti!

Sistema modulare

Sulla base del suo principio modulare, lo stadio del substrato TWISTER™ è un tipico dispositivo aggiornabile che richiede solo ulteriori morsetti pneumatici in caso di aggiunta di un blocco del carico. Qualora fosse necessario il raffreddamento, è sufficiente sostituire la piastra riscaldante con una piastra di riscaldamento + raffreddamento combinata.

Manovrabilità precisa per risultati accurati

  • Pellicole sottili uniformi e omogenee grazie alla rotazione accurata del substrato
  • Z-shift opzionale per regolare la distanza del substrato rispetto alle sorgenti di rivestimento e per i trasferimenti con blocco del carico
  • Flessibilità delle piastre del substrato con diametri fino a 6 pollici
  • Qualità dello strato migliorata grazie al riscaldamento fino a 400 °C
  • Raffreddamento ad acqua opzionale:
    • Protegge i substrati sensibili come lamine e materiali OLED
    • Raffreddamento e trattamento successivo più rapidi
  • Schermo di rivestimento facilmente sostituibile per la pulizia
  • Controllo posizione incluso
  • Possibilità di aggiornare la maggior parte dei dispositivi di rivestimento da laboratorio esistenti
TWISTER - substrate stage for vacuum coating systems
Stadio del substrato TWISTER™
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Systems + Solutions

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