Applicazioni con ultra alto vuoto
Le condizioni di ultra alto vuoto (UHV) sono un prerequisito per la maggior parte delle ricerche più complesse condotte da laboratori governativi, accademici e del settore privato.
I laboratori nazionali, le grandi università di ricerca a livello mondiale e le industrie, come quelle della difesa, aerospaziali o di strumentazione analitica, utilizzano un'ampia gamma di apparecchiature per vuoto per raggiungere i livelli di vuoto richiesti. Molte di queste organizzazioni si affidano a Leybold per pompe per vuoto, strumenti e sistemi altamente specifici.
UHV è il regime del vuoto caratterizzato da pressioni inferiori a circa 10−9 mbar (o 10-7 Pa). Le condizioni di ultra alto vuoto sono necessarie per ridurre la contaminazione delle superfici in molte tecniche analitiche di superfici. Ad esempio, la spettroscopia fotoelettronica a raggi X (XPS), la spettroscopia elettronica Auger (AES), la spettrometria di massa ionica secondaria (SIMS) o la microscopia a emissione di campo (FEM).
Le tecniche di crescita e preparazione del film sottile con requisiti severi in termini di purezza, come l'epitassia da fasci molecolari (MBE) e la deposizione dello strato atomico (ALD), si basano anche sulle condizioni UHV.
In applicazioni di ricerca come acceleratori di particelle e rivelatori di onde gravitazionali, condizioni di vuoto ultra alto contribuiranno principalmente a ridurre le interazioni fascio-gas e a limitare le perturbazioni indesiderate dall'ambiente esterno. Questi livelli di vuoto richiedono l'uso di materiali e principi di pompaggio speciali.
Offriamo un'ampia gamma di soluzioni per vuoto avanzate per l'uso in applicazioni UHV ambiziose. I nostri componenti, le nostre soluzioni di sistemi e i servizi post-vendita hanno dimostrato i loro vantaggi nei principali centri di ricerca di tutto il mondo.
Piattaforme M-UHV
Piattaforme modulari per sperimentazione con vuoto ultra alto
Le opzioni basate sull'automazione includono
100 | 200 | 300 | 400
Pressione finale
< 5 x 10-10 mbar
- Variazione della temperatura del substrato da 100 K a 1.000 K
- Misurazione accurata della temperatura
- Struttura modulare unita a strutture della stazione di trasferimento UHV per facilitare l'assemblaggio di sistemi cluster
- Configurazione plug and play per un'ampia gamma di strumenti di sperimentazione UHV
- Con portacampioni a bandiera
- Applicazioni correlate
- Prodotti correlati
- Vantaggi
| Pompe Roots multistadio | Pompe a coclea | Pompe turbomolecolari (TMP) | Pompe criogeniche |
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ECODRY Plus Vantaggi: |
SCROLLVAC Plus Vantaggi: |
TURBOVAC IX & MAG W IP TURBOLAB Vantaggi: |
COOLVAC ICL & BL Vantaggi: |
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| Pompe ioniche getter e controller | Pompe a sublimazione di titanio | Pompe NEG | Hardware, valvole, raccordi per vuoto ultra alto |
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TITan & DIGITEL Vantaggi: |
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