TWISTER 기판 단계
손쉬운 연구 및 개발
완전히 자체 제조된 TWISTER™ 기판 단계는 혁신적이고 견고하며 신뢰할 수 있는 기술을 UNIVEX 시스템 또는 이미 운영 중인 다른 코팅 챔버에 통합하기 위한 다음 단계입니다.
특정 응용 분야 맞춤형 솔루션
성공적이고 재현 가능한 코팅 공정을 보장하기 위해, 당사는 뛰어난 균질성과 코팅 품질을 허용하는 선회 가능한 가열 기판 단계를 개발했습니다.
고객의 다양한 요구 사항을 충족하기 위해, 당사는 세 가지 주요 버전으로 구성된 모듈식 시스템을 제공합니다.
- 기본
- 고급
- Full Feature
여기에서 576개의 가능한 변형을 이끌어 낼 수 있습니다!
모듈식 시스템
모듈식 원리에 기반한 TWISTER™ 기판 단계는 로드 잠금이 추가될 경우 추가 공압 클램프만 필요한 일반적인 업그레이드 가능 장치입니다. 냉각이 필요한 경우 가열 플레이트를 가열 + 냉각 플레이트와 교체하십시오.
정확한 결과를 위한 정밀한 취급
- 기판의 정확한 회전으로 균일하고 균질한 박막 형성
- 코팅 소스까지의 기판 거리를 조정하고 부하 잠금 핸드오버를 위한 Z-shift 옵션
- 최대 6인치 직경의 기판 플레이트 유연성
- 최대 400°C까지 가열하여 레이어 품질 향상
- 용수 냉각 옵션:
- 포일 및 OLED 재료와 같은 민감한 기판 보호
- 더 빠른 냉각 및 후속 처리
- 세척을 위해 쉽게 교체할 수 있는 코팅 실드
- 위치 제어 포함
- 대부분의 기존 실험실 코팅 장치의 업그레이드 가능
- 컨텐츠
