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Chargement et revêtement de substrats sensibles à l'humidité et à l'oxygène dans un environnement inerte
Notre système de boîte à gants standard permet de charger et de recouvrir des substrats sensibles à l'humidité et à l'oxygène dans l'environnement inerte d'une boîte à gants.
Les systèmes UNIVEX G sont dotés d'une porte coulissante avant pour la connexion à la boîte à gants. Cette porte coulissante permet à l'opérateur d'accéder facilement à la chambre de traitement via la boîte à gants. Si un accès direct est nécessaire, l'UNIVEX G dispose d'une deuxième porte à l'arrière.
Applications courantes
Accès direct et facile à l'équipement de traitement via la porte coulissante latérale avant
Accès pratique pour l'entretien via la porte à charnière à l'arrière
Intégration de tous les composants de processus
L'UNIVEX G 250 est une solution pratique et économique pour les tâches de revêtement ne nécessitant pas beaucoup d'espace.
Les substrats et les supports de substrat d'un diamètre total maximum de 220 mm peuvent y être traités.
G 250 |
|
---|---|
Chamber size |
Width 270 mm Depth 370 mm Height 400 mm |
Thermal evaporator |
up to 4 materials |
Organic evaporator |
up to 4 materials |
E-beam evaporation |
multi-pocket or single pocket |
Sputtering |
up or down, 2 x 2" |
Co-Deposition |
evaporation and/or sputtering |
Load lock compatible |
optional |
Vacuum level |
mid 10-7 mbar |
Cleanroom compatible |
yes |
L'UNIVEX G 350 combine un design compact et une chambre spacieuse.
Pour de nombreuses tâches de revêtement, l'UNIVEX G 350 offre des conditions d'espace optimales et un accès pratique aux composants de processus et au traitement des substrats.
Des substrats et des supports de substrat d'un diamètre total allant jusqu'à 300 mm peuvent y être traités.
G 350 |
|
---|---|
chamber size |
Width: 370 mm Depth: 390 mm Height: 500 mm |
thermal evaporator |
up to 8 materials |
organic evaporator |
Up to 4 materials |
e-beam evaporation |
Multi-pocket and/or single pocket |
sputtering |
Up or down: 3 X 2” guns, or 2 X 3” guns |
Co-Deposition |
Evaporation and/or sputtering |
load lock compatible |
optional |
Ion assisted deposition |
optional |
vacuum level |
mid 10-7 mbar |
cleanroom compatible |
yes |
Grâce à la taille de sa chambre, l'UNIVEX G 450 est adapté à toutes les tâches de dépôt nécessitant beaucoup d'espace. Des substrats et des supports de substrat allant jusqu'à plus de 400 mm de diamètre peuvent y être traités. Avec une hauteur de 650 mm, la chambre à vide est également adaptée aux applications de lift-off.
G 450 |
|
---|---|
chamber size |
Width: 500 mm Depth: 500 mm Height: 650 mm |
thermal evaporator |
Up to 8 materials |
organic evaporator |
Up to 8 materials |
e-beam evaporation |
Multi-pocket and/or single pocket |
sputtering |
Up or down: 3 X 3”, 2 X 4”, 4 X 2” or other |
Co-Deposition |
Evaporation and/or sputtering |
load lock compatible |
optional |
Ion assisted deposition |
optional |
vacuum level |
mid 10-7 mbar |
cleanroom compatible |
yes |
L'UNIVEX G 250 est une solution pratique et économique pour les tâches de revêtement ne nécessitant pas beaucoup d'espace.
Les substrats et les supports de substrat d'un diamètre total maximum de 220 mm peuvent y être traités.
G 250 |
|
---|---|
Chamber size |
Width 270 mm Depth 370 mm Height 400 mm |
Thermal evaporator |
up to 4 materials |
Organic evaporator |
up to 4 materials |
E-beam evaporation |
multi-pocket or single pocket |
Sputtering |
up or down, 2 x 2" |
Co-Deposition |
evaporation and/or sputtering |
Load lock compatible |
optional |
Vacuum level |
mid 10-7 mbar |
Cleanroom compatible |
yes |
L'UNIVEX G 350 combine un design compact et une chambre spacieuse.
Pour de nombreuses tâches de revêtement, l'UNIVEX G 350 offre des conditions d'espace optimales et un accès pratique aux composants de processus et au traitement des substrats.
Des substrats et des supports de substrat d'un diamètre total allant jusqu'à 300 mm peuvent y être traités.
G 350 |
|
---|---|
chamber size |
Width: 370 mm Depth: 390 mm Height: 500 mm |
thermal evaporator |
up to 8 materials |
organic evaporator |
Up to 4 materials |
e-beam evaporation |
Multi-pocket and/or single pocket |
sputtering |
Up or down: 3 X 2” guns, or 2 X 3” guns |
Co-Deposition |
Evaporation and/or sputtering |
load lock compatible |
optional |
Ion assisted deposition |
optional |
vacuum level |
mid 10-7 mbar |
cleanroom compatible |
yes |
Grâce à la taille de sa chambre, l'UNIVEX G 450 est adapté à toutes les tâches de dépôt nécessitant beaucoup d'espace. Des substrats et des supports de substrat allant jusqu'à plus de 400 mm de diamètre peuvent y être traités. Avec une hauteur de 650 mm, la chambre à vide est également adaptée aux applications de lift-off.
G 450 |
|
---|---|
chamber size |
Width: 500 mm Depth: 500 mm Height: 650 mm |
thermal evaporator |
Up to 8 materials |
organic evaporator |
Up to 8 materials |
e-beam evaporation |
Multi-pocket and/or single pocket |
sputtering |
Up or down: 3 X 3”, 2 X 4”, 4 X 2” or other |
Co-Deposition |
Evaporation and/or sputtering |
load lock compatible |
optional |
Ion assisted deposition |
optional |
vacuum level |
mid 10-7 mbar |
cleanroom compatible |
yes |