Boîte à gants UNIVEX G

Chargement et revêtement de substrats sensibles à l'humidité et à l'oxygène dans un environnement inerte

Notre système de boîte à gants standard permet de charger et de recouvrir des substrats sensibles à l'humidité et à l'oxygène dans l'environnement inerte d'une boîte à gants.

Les systèmes UNIVEX G sont dotés d'une porte coulissante avant pour la connexion à la boîte à gants. Cette porte coulissante permet à l'opérateur d'accéder facilement à la chambre de traitement via la boîte à gants. Si un accès direct est nécessaire, l'UNIVEX G dispose d'une deuxième porte à l'arrière.

Applications courantes

Métallisation des contacts (évaporation de l'or, de l'argent, du chrome, du nickel, du titane, etc.)
Biocapteurs/dispositifs médicaux
Electronique organique : OLED, photovoltaïque organique
Points quantiques/écrans
Evaporateurs à faisceau d'électrons et organiques pour la formation de pérovskite organique/inorganique

Accès direct et facile à l'équipement de traitement via la porte coulissante latérale avant

Accès pratique pour l'entretien via la porte à charnière à l'arrière

Intégration de tous les composants de processus

UNIVEX G 250
UNIVEX G 350
UNIVEX G 450

UNIVEX G 250

L'UNIVEX G 250 est une solution pratique et économique pour les tâches de revêtement ne nécessitant pas beaucoup d'espace.

Les substrats et les supports de substrat d'un diamètre total maximum de 220 mm peuvent y être traités.

	G 250
Chamber size	Width 270 mm Depth 370 mm Height 400 mm
Thermal evaporator	up to 4 materials
Organic evaporator	up to 4 materials
E-beam evaporation	multi-pocket or single pocket
Sputtering	up or down, 2 x 2"
Co-Deposition	evaporation and/or sputtering
Load lock compatible	optional
Vacuum level	mid 10^-7 mbar
Cleanroom compatible	yes

UNIVEX G 350

L'UNIVEX G 350 combine un design compact et une chambre spacieuse.

Pour de nombreuses tâches de revêtement, l'UNIVEX G 350 offre des conditions d'espace optimales et un accès pratique aux composants de processus et au traitement des substrats.

Des substrats et des supports de substrat d'un diamètre total allant jusqu'à 300 mm peuvent y être traités.

	G 350
chamber size	Width: 370 mm Depth: 390 mm Height: 500 mm
thermal evaporator	up to 8 materials
organic evaporator	Up to 4 materials
e-beam evaporation	Multi-pocket and/or single pocket
sputtering	Up or down: 3 X 2” guns, or 2 X 3” guns
Co-Deposition	Evaporation and/or sputtering
load lock compatible	optional
Ion assisted deposition	optional
vacuum level	mid 10^-7 mbar
cleanroom compatible	yes

UNIVEX G 450

Grâce à la taille de sa chambre, l'UNIVEX G 450 est adapté à toutes les tâches de dépôt nécessitant beaucoup d'espace. Des substrats et des supports de substrat allant jusqu'à plus de 400 mm de diamètre peuvent y être traités. Avec une hauteur de 650 mm, la chambre à vide est également adaptée aux applications de lift-off.

	G 450
chamber size	Width: 500 mm Depth: 500 mm Height: 650 mm
thermal evaporator	Up to 8 materials
organic evaporator	Up to 8 materials
e-beam evaporation	Multi-pocket and/or single pocket
sputtering	Up or down: 3 X 3”, 2 X 4”, 4 X 2” or other
Co-Deposition	Evaporation and/or sputtering
load lock compatible	optional
Ion assisted deposition	optional
vacuum level	mid 10^-7 mbar
cleanroom compatible	yes

UNIVEX G 250

L'UNIVEX G 250 est une solution pratique et économique pour les tâches de revêtement ne nécessitant pas beaucoup d'espace.

Les substrats et les supports de substrat d'un diamètre total maximum de 220 mm peuvent y être traités.

	G 250
Chamber size	Width 270 mm Depth 370 mm Height 400 mm
Thermal evaporator	up to 4 materials
Organic evaporator	up to 4 materials
E-beam evaporation	multi-pocket or single pocket
Sputtering	up or down, 2 x 2"
Co-Deposition	evaporation and/or sputtering
Load lock compatible	optional
Vacuum level	mid 10^-7 mbar
Cleanroom compatible	yes

UNIVEX G 350

L'UNIVEX G 350 combine un design compact et une chambre spacieuse.

Pour de nombreuses tâches de revêtement, l'UNIVEX G 350 offre des conditions d'espace optimales et un accès pratique aux composants de processus et au traitement des substrats.

Des substrats et des supports de substrat d'un diamètre total allant jusqu'à 300 mm peuvent y être traités.

	G 350
chamber size	Width: 370 mm Depth: 390 mm Height: 500 mm
thermal evaporator	up to 8 materials
organic evaporator	Up to 4 materials
e-beam evaporation	Multi-pocket and/or single pocket
sputtering	Up or down: 3 X 2” guns, or 2 X 3” guns
Co-Deposition	Evaporation and/or sputtering
load lock compatible	optional
Ion assisted deposition	optional
vacuum level	mid 10^-7 mbar
cleanroom compatible	yes

UNIVEX G 450

	G 450
chamber size	Width: 500 mm Depth: 500 mm Height: 650 mm
thermal evaporator	Up to 8 materials
organic evaporator	Up to 8 materials
e-beam evaporation	Multi-pocket and/or single pocket
sputtering	Up or down: 3 X 3”, 2 X 4”, 4 X 2” or other
Co-Deposition	Evaporation and/or sputtering
load lock compatible	optional
Ion assisted deposition	optional
vacuum level	mid 10^-7 mbar
cleanroom compatible	yes

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