Applications de l'ultravide
Conditions d'ultravide : condition préalable dans les domaines de recherche les plus complexes dans les laboratoires gouvernementaux, les universités et l'industrie privée.
Les laboratoires nationaux, les grandes universités et les industries utilisent tous une large gamme d'équipements de vide pour atteindre les niveaux de vide requis.
Bon nombre de ces organisations nous font confiance pour leur fournir des pompes à vide, des instruments et des systèmes hautement spécifiques.
L'ultravide est un niveau de vide caractérisé par des pressions inférieures à environ 10−9 mbar (ou 10-7 Pa). Des conditions d'ultravide sont nécessaires pour réduire la contamination de surface dans de nombreuses techniques d'analyse de surface, par exemple : la spectroscopie photoélectronique à rayonnement X (XPS), la spectroscopie d'électrons Auger (AES), la spectrométrie de masse d'ions secondaire (SIMS) ou la microscopie par émission électronique de champ (FEM).
Les techniques de croissance et de préparation de couches minces soumises à des exigences strictes en matière de pureté, comme l'épitaxie par faisceau moléculaire (MBE) et le dépôt de couches atomiques (ALD), reposent également sur des conditions d'ultravide.
Dans les applications de recherche telles que les accélérateurs de particules ou les détecteurs d'ondes gravitationnelles, les conditions d'ultravide aident principalement à réduire les interactions entre le faisceau et les gaz et à limiter les perturbations indésirables de l'environnement extérieur. Ces niveaux de vide exigent l'utilisation de matériaux et de principes de pompage spéciaux.
Nous proposons une large gamme de solutions de vide de pointe pouvant être mises en œuvre dans des applications d'ultravide ambitieuses. Nos composants, nos solutions de système et notre service après-vente ont prouvé leurs performances auprès des principaux centres de recherche du monde entier.
Plates-formes M-UHV
Plates-formes d'expérimentation sous ultravide modulaires
Les options basées sur l'automatisation incluent
100 | 200 | 300 | 400
Pression limite
< 5 x 10-10 mbar
- Variation de température du substrat de 100 K à 1000 K
- Mesure précise de la température
- Concept modulaire et installations de station de transfert à ultravide, assemblage facile des systèmes de cluster
- Configuration prête à l'emploi pour une large gamme d'outils d'expérimentation à ultravide
- Intégration de porte-échantillons de type « flag »
Nos avantages
- Pompes Roots multi-étagées
- Pompes à spirales
- Pompes turbomoléculaires (TMP)
- Pompes cryogéniques
- Pompes ioniques à piégeur et contrôleurs
- Pompes à sublimation de titane
- Pompes NEG
- Matériel, vannes et raccords pour ultravide
Pompes Roots multi-étagées
- Pompe primaire idéale pour l'ultravide
- Pression limite basse
- Très silencieuses < 52 dB (A), faibles vibrations
- Aucune contamination par de l'huile ou des particules
- Absence d'entretien durant de nombreuses années
Pompes à spirales
- Sans huile
- Silencieuses (55 dB (A))
- Remplacement du joint de l'embout par le client en 10 minutes
- Pression limite très faible
Pompes turbomoléculaires (TMP)
- Gamme complète de pompes et systèmes turbomoléculaires
- Création d'un vide sans hydrocarbure
- Pression limite basse
- Vitesse de pompage élevée pour les gaz légers
- Entretien réduit
- Systèmes de pompe prêts à l'emploi
Pompes cryogéniques
- Pompes cryogéniques COOLVAC avec grande capacité de pompage de vapeur d'eau et faibles besoins d'entretien
- Création d'un vide propre et sec
- Têtes froides COOLPOWER pour l'obtention d'une température cryogénique sans hélium liquide ni azote liquide
Pompes ioniques à piégeur et contrôleurs
- Fonctionnement sans hydrocarbures dans la plage de l'extrême vide (XHV)
- Aucune pièce mobile, aucun bruit de fonctionnement
- Aucune vibration
- Tolérance élevée aux températures, aux rayonnements et aux champs magnétiques
Pompes à sublimation de titane
- Idéale pour éliminer les gaz résiduels dans les systèmes d'ultravide
- Vitesse de pompage très élevée pour les gaz réactifs
- Simplicité et rentabilité
Pompes NEG
- Haute efficacité de piégeage du H2 (gaz résiduel principal dans les applications UHV/XHV)
- Fonctionnement sans vibration
- Sans huile
Matériel, vannes et raccords pour ultravide
- Large gamme de vannes, de matériel et de raccords à bride CF pour les applications UHV
- Matériaux à faible résorption de gaz avec les taux de fuites les plus faibles
- Températures d'étuvage élevées
- Pompe primaire idéale pour l'ultravide
- Pression limite basse
- Très silencieuses < 52 dB (A), faibles vibrations
- Aucune contamination par de l'huile ou des particules
- Absence d'entretien durant de nombreuses années
- Sans huile
- Silencieuses (55 dB (A))
- Remplacement du joint de l'embout par le client en 10 minutes
- Pression limite très faible
- Gamme complète de pompes et systèmes turbomoléculaires
- Création d'un vide sans hydrocarbure
- Pression limite basse
- Vitesse de pompage élevée pour les gaz légers
- Entretien réduit
- Systèmes de pompe prêts à l'emploi
- Pompes cryogéniques COOLVAC avec grande capacité de pompage de vapeur d'eau et faibles besoins d'entretien
- Création d'un vide propre et sec
- Têtes froides COOLPOWER pour l'obtention d'une température cryogénique sans hélium liquide ni azote liquide
- Fonctionnement sans hydrocarbures dans la plage de l'extrême vide (XHV)
- Aucune pièce mobile, aucun bruit de fonctionnement
- Aucune vibration
- Tolérance élevée aux températures, aux rayonnements et aux champs magnétiques
- Idéale pour éliminer les gaz résiduels dans les systèmes d'ultravide
- Vitesse de pompage très élevée pour les gaz réactifs
- Simplicité et rentabilité
- Haute efficacité de piégeage du H2 (gaz résiduel principal dans les applications UHV/XHV)
- Fonctionnement sans vibration
- Sans huile
- Large gamme de vannes, de matériel et de raccords à bride CF pour les applications UHV
- Matériaux à faible résorption de gaz avec les taux de fuites les plus faibles
- Températures d'étuvage élevées
- Applications connexes
- Produits associés
