Sistemas de recubrimiento compactos UNIVEX

Nuestros sistemas de recubrimiento de compactos, permiten acceder directamente a la cámara de proceso. Los sistemas de revestimiento compactos UNIVEX de Leybold se definen en función del tamaño de la cámara.

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Diseño modular del sistema

Cámara de vacío multiusos

Acceso muy sencillo a todos los equipos instalados

Diversas técnicas de deposición en la misma cámara

Compatible con salas blancas

UNIVEX 250
UNIVEX 400
UNIVEX 600
UNIVEX 900

UNIVEX 250

Nuestros sistemas de recubrimiento compactos, permiten acceder directamente a la cámara de proceso. Los sistemas de revestimiento compactos UNIVEX de Leybold se definen en función del tamaño de la cámara.

Su baja altura, de tan solo 1,2 metros (aproximadamente), los hace idóneos para colocarlos sobre banco. Permite recubrir sustratos de hasta 220 mm de diámetro total.

El controlador del sistema le permite aplicar procesos de recubrimiento manuales y semiautomáticos respectivos.

Aplicaciones habituales:

Metalización por contacto (evaporación de oro, plata, cromo, níquel, titanio, etc.)
Imagen por contraste para microscopía (indio, carbono, etc.)
Películas finas para aplicaciones solares

Configuraciones habituales

Cañón de electrones multihueco con evaporador térmico
Hasta dos pistolas de sputtering de 2" en configuración confocal y sputter up

	UNIVEX 250
Chamber size	width: 270 mm, depth: 370 mm, height: 400 mm
Thermal evaporator	up to 4 materials
Organic evaporator	up to 4 materials
E-beam evaporation	multi-pocket or single pocket
Sputtering	up or down, 2 x 2"
Co-Deposition	evaporation and/or sputtering
Load lock compatible	optional
Water tempered chamber	optional
Vacuum level	mid 10^-7 mbar
Cleanroom compatible	yes

UNIVEX 400

UNIVEX 400 es un sistema de recubrimiento compacto para trabajos de laboratorio y procesos de producción piloto. Las dimensiones de su cámara lo hacen idóneo para recubrir sustratos de tamaño reducido a mediano.

Permite recubrir sustratos y soportes de hasta 350 mm de diámetro total.

El controlador del sistema le permite aplicar procesos de recubrimiento manuales, semiautomáticos y totalmente automáticos.

Aplicaciones habituales

Películas finas para aplicaciones solares: procesos de CdTe, CIGS y CZTS con sputter
Electrónica orgánica (PV, OLED)
Recubrimientos en aplicaciones ópticas
Microelectrónica

Configuraciones habituales

Cañón de electrones multi-pocket con evaporador térmico y fuente iónica
Hasta dos pistolas de sputtering de 2" en configuración confocal y sputter up o down
Evaporadores orgánicos y de cañón de electrones para la producción de perovskita inorgánico-orgánica

	UNIVEX 400
Chamber size	width: 420 mm, depth: 480 mm, height: 550 mm
Thermal evaporator	up to 8 materials
Organic evaporator	up to 8 materials
E-beam evaporation	multi-pocket or single pocket
Sputtering	up or down, 4 X 2”, 3 X 3”, 2 X 4” or other
Co-Deposition	evaporation and/or sputtering
Load lock compatible	optional
Ion assisted deposition	optional
Water tempered chamber	yes
Vacuum level	mid 10^-7 mbar
UHV Version	optional
Cleanroom compatible	yes

UNIVEX 600

UNIVEX 600 es un sistema de recubrimiento compacto para trabajos de laboratorio y procesos de producción piloto. Las dimensiones de su cámara lo hacen idóneo para sustratos de tamaño mediano a grande.

El rendimiento alcanzable del sustrato satisface las necesidades generales de tandas de producción en serie reducidas. Permite recubrir sustratos y soportes de hasta 550 mm de diámetro total.

El controlador del sistema le permite aplicar procesos de recubrimiento manuales, semiautomáticos y totalmente automáticos.

Aplicaciones habituales

Recubrimientos en aplicaciones ópticas
Dispositivos optoelectrónicos
RAM resistiva
Superconductores de alta temperatura

Configuraciones habituales

Calentadores o refrigeradores de sustrato
Cañón de electrones multi-pocket con evaporador térmico y fuente iónica
Configuraciones de sustrato en paleta, abovedado o planetario para una o varias muestras
Múltiples magnetrones en configuración confocal o cara a cara

	UNIVEX 600
Chamber size	Width: 600 mm Depth: 600 mm Height: 800 mm or 550 mm (sputter)
Thermal evaporator	up to 8 materials
Organic evaporator	up to 8 materials
E-beam evaporation	multi-pocket and/or single pocket, multiple gun operation
Sputtering	up or down: 4 X 3”, 3 X 4”, 6 X 2” or other
Co-Deposition	evaporation and/or sputtering
Load lock compatible	optional
Ion assisted deposition	optional
Water tempered chamber	yes
Vacuum level	mid 10^-7mbar
UHV Version	optional
Cleanroom compatible	yes

UNIVEX 900

UNIVEX 900 es la solución más sofisticada para sustratos entre intermedios y grandes, y permite obtener mayores rendimientos de sustrato. Permite recubrir sustratos y soportes de hasta 800 mm de diámetro total. El controlador del sistema le permite aplicar procesos de recubrimiento manuales, semiautomáticos y totalmente automáticos.

Aplicaciones habituales

Recubrimientos en aplicaciones ópticas
Dispositivos optoelectrónicos
RAM resistiva
Superconductores de alta temperatura

Configuraciones habituales

Calentadores o refrigeradores de sustrato
Cañón de electrones multi-pocket con fuentes iónicas para la limpieza previa de sustrato y la deposición asistida mediante iones
Configuraciones de sustrato en paleta, abovedado o planetario para una o varias muestras
Múltiples magnetrones en configuración confocal o cara a cara

	UNIVEX 900
Chamber size	Width: 900 mm Depth: 900 mm Height: 1100 mm
Thermal evaporator	up to 8 materials
Organic evaporator	up to 8 materials
E-beam evaporation	multi-pocket and/or single pocket, multiple gun operation
Sputtering	optional
Co-Deposition	yes
Load lock compatible	optional
Ion assisted deposition	optional
Water tempered chamber	yes
Vacuum level	mid 10^-7 mbar
UHV Version	optional
Cleanroom compatible	yes

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