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Sistemas de recubrimiento compactos UNIVEX

Nuestros sistemas de recubrimiento de compactos, permiten acceder directamente a la cámara de proceso. Los sistemas de revestimiento compactos UNIVEX de Leybold se definen en función del tamaño de la cámara.

Diseño modular del sistema

Cámara de vacío multiusos

Acceso muy sencillo a todos los equipos instalados

Diversas técnicas de deposición en la misma cámara

Compatible con salas blancas

UNIVEX 250

Nuestros sistemas de recubrimiento compactos, permiten acceder directamente a la cámara de proceso. Los sistemas de revestimiento compactos UNIVEX de Leybold se definen en función del tamaño de la cámara. 

Su baja altura, de tan solo 1,2 metros (aproximadamente), los hace idóneos para colocarlos sobre banco. Permite recubrir sustratos de hasta 220 mm de diámetro total. 

El controlador del sistema le permite aplicar procesos de recubrimiento manuales y semiautomáticos respectivos. 

Aplicaciones habituales:

  • Metalización por contacto (evaporación de oro, plata, cromo, níquel, titanio, etc.)
  • Imagen por contraste para microscopía (indio, carbono, etc.)
  • Películas finas para aplicaciones solares

Configuraciones habituales

  • Cañón de electrones multihueco con evaporador térmico 
  • Hasta dos pistolas de sputtering de 2" en configuración confocal y sputter up 
UNIVEX Coating Systems
 

UNIVEX 250

Tamaño de la cámara

Anchura: 270 mm, profundidad: 370 mm, altura: 400 mm

Evaporador térmico

Hasta 4 materiales

Evaporador de compuestos orgánicos

Hasta 4 materiales

Evaporación mediante cañón de electrones

Multihueco o un solo hueco

Pulverización catódica

Arriba o abajo: 2 x 2"

Codeposición

Evaporación o pulverización catódica

Compatible con carga y descarga

Opcional

Cámara de agua templada

Opcional

Nivel de vacío

Medio 10-7 mbar

Compatible con salas blancas

UNIVEX 400

UNIVEX 400 es un sistema de recubrimiento compacto para trabajos de laboratorio y procesos de producción piloto. Las dimensiones de su cámara lo hacen idóneo para recubrir sustratos de tamaño reducido a mediano. 

Permite recubrir sustratos y soportes de hasta 350 mm de diámetro total. 

El controlador del sistema le permite aplicar procesos de recubrimiento manuales, semiautomáticos y totalmente automáticos. 

 Aplicaciones habituales

  • Películas finas para aplicaciones solares: procesos de CdTe, CIGS y CZTS con sputter
  • Electrónica orgánica (PV, OLED)
  • Recubrimientos ópticos
  • Microelectrónica

Configuraciones habituales

  • Cañón de electrones multi-pocket con evaporador térmico y fuente iónica
  • Hasta dos pistolas de sputtering de 2" en configuración confocal y sputter up o down
  • Evaporadores orgánicos y de cañón de electrones para la producción de perovskita inorgánico-orgánica
UNIVEX Coating Systems
 

UNIVEX 400

Tamaño de la cámara

Anchura: 420 mm, profundidad: 480 mm, altura: 550 mm

Evaporador térmico

Hasta 8 materiales

Evaporador de compuestos orgánicos

Hasta 8 materiales

Evaporación mediante cañón de electrones

Multihueco o un solo hueco

Pulverización catódica

Arriba o abajo: 4 X 2", 3 X 3", 2 X 4" u otras

Codeposición

Evaporación o pulverización catódica

Compatible con carga y descarga

Opcional

Deposición asistida por iones

Opcional

Cámara de agua templada

Nivel de vacío

Medio 10-7 mbar

Versión UHV

Opcional

Compatible con salas blancas

UNIVEX 600

UNIVEX 600 es un sistema de recubrimiento compacto para trabajos de laboratorio y procesos de producción piloto. Las dimensiones de su cámara lo hacen idóneo para sustratos de tamaño mediano a grande. 

El rendimiento alcanzable del sustrato satisface las necesidades generales de tandas de producción en serie reducidas. Permite recubrir sustratos y soportes de hasta 550 mm de diámetro total. 

El controlador del sistema le permite aplicar procesos de recubrimiento manuales, semiautomáticos y totalmente automáticos. 

Aplicaciones habituales

  • Recubrimientos ópticos
  • Dispositivos optoelectrónicos
  • RAM resistiva
  • Superconductores de alta temperatura

Configuraciones habituales

  • Calentadores o refrigeradores de sustrato 
  • Cañón de electrones multi-pocket con evaporador térmico y fuente iónica
  • Configuraciones de sustrato en paleta, abovedado o planetario para una o varias muestras
  • Múltiples magnetrones en configuración confocal o cara a cara
UNIVEX Coating Systems
 

UNIVEX 600

Tamaño de la cámara

Anchura: 600 mm, profundidad: 600 mm, altura: 800 mm o 550 mm (pulverizador)

Evaporador térmico

Hasta 8 materiales

Evaporador de compuestos orgánicos

Hasta 8 materiales

Evaporación mediante cañón de electrones

Multihueco o un solo hueco, funcionamiento con varias pistolas

Pulverización catódica

Arriba o abajo: 4 X 3", 3 X 4", 6 X 2" u otras

Codeposición

Evaporación o pulverización catódica

Compatible con carga y descarga

Opcional

Deposición asistida por iones

Opcional

Cámara de agua templada

Nivel de vacío

Medio 10-7 mbar

Versión UHV

Opcional

Compatible con salas blancas

UNIVEX 900

UNIVEX 900 es la solución más sofisticada para sustratos entre intermedios y grandes, y permite obtener mayores rendimientos de sustrato. Permite recubrir sustratos y soportes de hasta 800 mm de diámetro total. El controlador del sistema le permite aplicar procesos de recubrimiento manuales, semiautomáticos y totalmente automáticos.

Aplicaciones habituales

  • Recubrimientos ópticos
  • Dispositivos optoelectrónicos
  • RAM resistiva
  • Superconductores de alta temperatura

Configuraciones habituales

  • Calentadores o refrigeradores de sustrato 
  • Cañón de electrones multi-pocket con fuentes iónicas para la limpieza previa de sustrato y la deposición asistida mediante iones
  • Configuraciones de sustrato en paleta, abovedado o planetario para una o varias muestras
  • Múltiples magnetrones en configuración confocal o cara a cara
UNIVEX Coating Systems
 

UNIVEX 900

Tamaño de la cámara

Anchura: 900 mm, profundidad: 900 mm, altura: 1100 mm

Evaporador térmico

Hasta 8 materiales

Evaporador de compuestos orgánicos

Hasta 8 materiales

Evaporación mediante cañón de electrones

Multihueco o un solo hueco, funcionamiento con varias pistolas

Pulverización catódica

Opcional

Codeposición

Compatible con carga y descarga

Opcional

Deposición asistida por iones

Opcional

Cámara de agua templada

Nivel de vacío

Medio 10-7 mbar

Versión UHV

Opcional

Compatible con salas blancas