Glove box UNIVEX G

Carregamento e revestimento de substratos sensíveis à umidade e ao oxigênio sob um ambiente inerte

Nosso sistema glovebox padrão permite o carregamento e o revestimento de substratos sensíveis à umidade e oxigênio sob o ambiente inerte de um glovebox.

Os sistemas UNIVEX G têm uma porta deslizante dianteira para conexão com o glove box. Essa porta deslizante permite ao operador um acesso fácil à câmara de processo através do glove box. Caso o acesso direto seja necessário, o UNIVEX G terá uma segunda porta na parte traseira.

Aplicações comuns

Metalização de contato (evaporação de ouro, prata, cromo, níquel, titânio, etc.)
Biosensores/dispositivos médicos
Componentes eletrônicos orgânicos: OLED, fotovoltaicos orgânicos
Pontos quânticos/display
Evaporadores de feixe de elétrons e orgânicos para formação de perovskite inorgânica-orgânica

Acesso direto e fácil ao equipamento de processo através da porta deslizante lateral dianteira

Acesso de serviço conveniente pela porta articulada traseira

Integração de quaisquer componentes do processo

UNIVEX G 250
UNIVEX G 350
UNIVEX G 450

UNIVEX G 250

A UNIVEX G 250 é uma solução conveniente e econômica para tarefas de revestimento que exigem pouco espaço.

Podem ser processados substratos, respectivamente suportes de substrato que possuem um diâmetro total máximo de até 220 mm.

	G 250
Tamanho da câmara	Largura 270 mm Profundidade 370 mm Altura 400 mm
Evaporador térmico	até 4 materiais
Evaporador orgânico	até 4 materiais
Evaporação de feixe de elétron	Cavidades múltiplas ou cavidade única
Pulverização catódica	para cima ou para baixo, 2 x 2"
Codeposição	evaporação e/ou pulverização catódica
Compatível com bloqueio de carga	opcional
Nível de vácuo	médio 10^-7 mbar
Compatível com salas limpas	sim

UNIVEX G 350

O UNIVEX G 350 combina um design compacto com muito espaço na câmara.

Para muitas tarefas de revestimento, o UNIVEX G 350 oferece condições ideais de espaço e acesso conveniente aos componentes do processo e processamento de substrato.

Podem ser processados substratos, respectivamente suportes de substrato que possuem um diâmetro total máximo de até 300 mm.

	G 350
tamanho da câmara	Largura: 370 mm Profundidade: 390 mm Altura: 500 mm
evaporador térmico	até 8 materiais
evaporador orgânico	Até 4 materiais
evaporação de feixe de elétrons	Cavidades múltiplas e/ou cavidade única
pulverização catódica	Para cima ou para baixo: pistolas de 3 X 2” ou pistolas de 2 X 3”
Codeposição	Evaporação e/ou pulverização catódica
compatível com bloqueio de carga	opcional
Deposição assistida por íons	opcional
nível de vácuo	médio 10^-7 mbar
compatível com salas limpas	sim

UNIVEX G 450

Devido às dimensões da câmara, o UNIVEX G 450 é adequado para todas as tarefas de revestimento que exigem muito espaço. Podem ser processados substratos, respectivamente suportes de substrato até um diâmetro total de aproximadamente 400 mm. Com uma altura de 650 mm, a câmara de vácuo também é adequada para aplicações de levantamento.

	G 450
tamanho da câmara	Largura: 500 mm Profundidade: 500 mm Altura: 650 mm
evaporador térmico	Até 8 materiais
evaporador orgânico	Até 8 materiais
evaporação de feixe de elétrons	Cavidades múltiplas e/ou cavidade única
pulverização catódica	Para cima ou para baixo: 3 X 3”, 2 X 4”, 4 X 2” ou outra
Codeposição	Evaporação e/ou pulverização catódica
compatível com bloqueio de carga	opcional
Deposição assistida por íons	opcional
nível de vácuo	médio 10^-7 mbar
compatível com salas limpas	sim