Glove box UNIVEX G
Carregamento e revestimento de substratos sensíveis à umidade e ao oxigênio sob um ambiente inerte
Nosso sistema glovebox padrão permite o carregamento e o revestimento de substratos sensíveis à umidade e oxigênio sob o ambiente inerte de um glovebox.
Os sistemas UNIVEX G têm uma porta deslizante dianteira para conexão com o glove box. Essa porta deslizante permite ao operador um acesso fácil à câmara de processo através do glove box. Caso o acesso direto seja necessário, o UNIVEX G terá uma segunda porta na parte traseira.
Aplicações comuns
- Metalização de contato (evaporação de ouro, prata, cromo, níquel, titânio, etc.)
- Biosensores/dispositivos médicos
- Componentes eletrônicos orgânicos: OLED, fotovoltaicos orgânicos
- Pontos quânticos/display
- Evaporadores de feixe de elétrons e orgânicos para formação de perovskite inorgânica-orgânica
- UNIVEX G 250
- UNIVEX G 350
- UNIVEX G 450
UNIVEX G 250
UNIVEX G 250
A UNIVEX G 250 é uma solução conveniente e econômica para tarefas de revestimento que exigem pouco espaço.
Podem ser processados substratos, respectivamente suportes de substrato que possuem um diâmetro total máximo de até 220 mm.
G 250 |
|
|---|---|
Tamanho da câmara |
Largura 270 mm Profundidade 370 mm Altura 400 mm |
Evaporador térmico |
até 4 materiais |
Evaporador orgânico |
até 4 materiais |
Evaporação de feixe de elétron |
Cavidades múltiplas ou cavidade única |
Pulverização catódica |
para cima ou para baixo, 2 x 2" |
Codeposição |
evaporação e/ou pulverização catódica |
Compatível com bloqueio de carga |
opcional |
Nível de vácuo |
médio 10-7 mbar |
Compatível com salas limpas |
sim |
UNIVEX G 350
UNIVEX G 350
O UNIVEX G 350 combina um design compacto com muito espaço na câmara.
Para muitas tarefas de revestimento, o UNIVEX G 350 oferece condições ideais de espaço e acesso conveniente aos componentes do processo e processamento de substrato.
Podem ser processados substratos, respectivamente suportes de substrato que possuem um diâmetro total máximo de até 300 mm.
G 350 |
|
|---|---|
tamanho da câmara |
Largura: 370 mm Profundidade: 390 mm Altura: 500 mm |
evaporador térmico |
até 8 materiais |
evaporador orgânico |
Até 4 materiais |
evaporação de feixe de elétrons |
Cavidades múltiplas e/ou cavidade única |
pulverização catódica |
Para cima ou para baixo: pistolas de 3 X 2” ou pistolas de 2 X 3” |
Codeposição |
Evaporação e/ou pulverização catódica |
compatível com bloqueio de carga |
opcional |
Deposição assistida por íons |
opcional |
nível de vácuo |
médio 10-7 mbar |
compatível com salas limpas |
sim |
UNIVEX G 450
UNIVEX G 450
Devido às dimensões da câmara, o UNIVEX G 450 é adequado para todas as tarefas de revestimento que exigem muito espaço. Podem ser processados substratos, respectivamente suportes de substrato até um diâmetro total de aproximadamente 400 mm. Com uma altura de 650 mm, a câmara de vácuo também é adequada para aplicações de levantamento.
G 450 |
|
|---|---|
tamanho da câmara |
Largura: 500 mm Profundidade: 500 mm Altura: 650 mm |
evaporador térmico |
Até 8 materiais |
evaporador orgânico |
Até 8 materiais |
evaporação de feixe de elétrons |
Cavidades múltiplas e/ou cavidade única |
pulverização catódica |
Para cima ou para baixo: 3 X 3”, 2 X 4”, 4 X 2” ou outra |
Codeposição |
Evaporação e/ou pulverização catódica |
compatível com bloqueio de carga |
opcional |
Deposição assistida por íons |
opcional |
nível de vácuo |
médio 10-7 mbar |
compatível com salas limpas |
sim |
UNIVEX G 250
A UNIVEX G 250 é uma solução conveniente e econômica para tarefas de revestimento que exigem pouco espaço.
Podem ser processados substratos, respectivamente suportes de substrato que possuem um diâmetro total máximo de até 220 mm.
G 250 |
|
|---|---|
Tamanho da câmara |
Largura 270 mm Profundidade 370 mm Altura 400 mm |
Evaporador térmico |
até 4 materiais |
Evaporador orgânico |
até 4 materiais |
Evaporação de feixe de elétron |
Cavidades múltiplas ou cavidade única |
Pulverização catódica |
para cima ou para baixo, 2 x 2" |
Codeposição |
evaporação e/ou pulverização catódica |
Compatível com bloqueio de carga |
opcional |
Nível de vácuo |
médio 10-7 mbar |
Compatível com salas limpas |
sim |
UNIVEX G 350
O UNIVEX G 350 combina um design compacto com muito espaço na câmara.
Para muitas tarefas de revestimento, o UNIVEX G 350 oferece condições ideais de espaço e acesso conveniente aos componentes do processo e processamento de substrato.
Podem ser processados substratos, respectivamente suportes de substrato que possuem um diâmetro total máximo de até 300 mm.
G 350 |
|
|---|---|
tamanho da câmara |
Largura: 370 mm Profundidade: 390 mm Altura: 500 mm |
evaporador térmico |
até 8 materiais |
evaporador orgânico |
Até 4 materiais |
evaporação de feixe de elétrons |
Cavidades múltiplas e/ou cavidade única |
pulverização catódica |
Para cima ou para baixo: pistolas de 3 X 2” ou pistolas de 2 X 3” |
Codeposição |
Evaporação e/ou pulverização catódica |
compatível com bloqueio de carga |
opcional |
Deposição assistida por íons |
opcional |
nível de vácuo |
médio 10-7 mbar |
compatível com salas limpas |
sim |
UNIVEX G 450
Devido às dimensões da câmara, o UNIVEX G 450 é adequado para todas as tarefas de revestimento que exigem muito espaço. Podem ser processados substratos, respectivamente suportes de substrato até um diâmetro total de aproximadamente 400 mm. Com uma altura de 650 mm, a câmara de vácuo também é adequada para aplicações de levantamento.
G 450 |
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|---|---|
tamanho da câmara |
Largura: 500 mm Profundidade: 500 mm Altura: 650 mm |
evaporador térmico |
Até 8 materiais |
evaporador orgânico |
Até 8 materiais |
evaporação de feixe de elétrons |
Cavidades múltiplas e/ou cavidade única |
pulverização catódica |
Para cima ou para baixo: 3 X 3”, 2 X 4”, 4 X 2” ou outra |
Codeposição |
Evaporação e/ou pulverização catódica |
compatível com bloqueio de carga |
opcional |
Deposição assistida por íons |
opcional |
nível de vácuo |
médio 10-7 mbar |
compatível com salas limpas |
sim |
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