Sistemas de revestimento UNIVEX
Nossos sistemas compactos de revestimento permitem acesso direto à câmara de processo. Os sistemas de revestimento Leybold UNIVEX são definidos pelo tamanho da câmara.
- UNIVEX 250
- UNIVEX 400
- UNIVEX 600
- UNIVEX 900
UNIVEX 250
Nossos sistemas compactos de revestimento permitem acesso direto à câmara de processo. Os sistemas de revestimento Leybold UNIVEX são definidos pelo tamanho da câmara.
Devido à sua baixa altura de apenas aproximadamente 1,2 metros, ele é idealmente colocado sobre uma bancada. Podem ser revestidos os substratos que possuem um diâmetro total máximo de até 220 mm.
O controlador do sistema permite que você execute processos de revestimento manuais e semiautomáticos, respectivamente.
Aplicações comuns:
- Metalização de contato (evaporação de ouro, prata, cromo, níquel, titânio, etc.)
- Imagens com contraste para microscopia (índio, carbono, etc.)
- Filme solar fino
Configurações típicas
- Feixe de elétrons de cavidades múltiplas com evaporador térmico
- Até duas pistolas pulverizadoras de 2 pol. em configuração confocal para pulverização catódica para cima
UNIVEX 250 |
|
|---|---|
Tamanho da câmara |
largura: 270 mm, profundidade: 370 mm, altura: 400 mm |
Evaporador térmico |
até 4 materiais |
Evaporador orgânico |
até 4 materiais |
Evaporação de feixe de elétron |
Cavidades múltiplas ou cavidade única |
Pulverização catódica |
para cima ou para baixo, 2 x 2" |
Codeposição |
evaporação e/ou pulverização catódica |
Compatível com bloqueio de carga |
opcional |
Câmara temperada com água |
opcional |
Nível de vácuo |
médio 10-7 mbar |
Compatível com salas limpas |
sim |
UNIVEX 400
O UNIVEX 400 é um sistema de revestimento compacto para tarefas de laboratório, respectivamente, execuções de produção piloto. Devido às dimensões da câmara, é ideal para revestimento de substratos de pequeno a médio porte.
Podem ser revestidos substratos / suportes de substrato que possuem um diâmetro total máximo de até 350 mm.
O controlador do sistema permite executar processos de revestimento manuais, semiautomáticos e totalmente automáticos.
Aplicações comuns
- Filme solar fino: processos pulverizados CdTe, CIGS, CZTS
- Componentes eletrônicos orgânicos (PV, OLEDS)
- Revestimentos ópticos
- Microeletrônicos
Configurações típicas
- Feixe de elétrons de cavidades múltiplas com evaporador térmico e fonte de íons.
- Até quatro pistolas pulverizadoras de 2 pol. em configuração confocal para pulverização catódica para cima ou para baixo
- Evaporadores de feixe de elétrons e orgânicos para formação de perovskite inorgânica-orgânica
UNIVEX 400 |
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|---|---|
Tamanho da câmara |
largura: 420 mm, profundidade: 480 mm, altura: 550 mm |
Evaporador térmico |
até 8 materiais |
Evaporador orgânico |
até 8 materiais |
Evaporação de feixe de elétron |
Cavidades múltiplas ou cavidade única |
Pulverização catódica |
para cima ou para baixo, 4 X 2”, 3 X 3”, 2 X 4” ou outra |
Codeposição |
evaporação e/ou pulverização catódica |
Compatível com bloqueio de carga |
opcional |
Deposição assistida por íons |
opcional |
Câmara temperada com água |
sim |
Nível de vácuo |
médio 10-7 mbar |
Versão UHV |
opcional |
Compatível com salas limpas |
sim |
UNIVEX 600
O UNIVEX 600 é um sistema de revestimento compacto para o laboratório, respectivamente, execuções de produção piloto. Devido ao tamanho da câmara, é ideal para revestimento de substratos de médio a grande porte.
O rendimento de substrato atingível atende aos requisitos gerais para pequenas execuções de produção em série. Podem ser revestidos substratos / suportes de substrato que possuem um diâmetro total máximo de até 550 mm.
O controlador do sistema permite executar processos de revestimento manuais, semiautomáticos e totalmente automatizados.
Aplicações comuns
- Revestimentos ópticos
- Dispositivos optoeletrônicos
- RAM resistiva
- Supercondutores de alta temperatura
Configurações típicas
- Aquecedores de substrato e/ou arrefecedores
- Feixe de elétrons de cavidades múltiplas com evaporador térmico e fonte de íons.
- Configurações de substrato de paleta, cúpula ou planetário para amostras únicas, ou múltiplas
- Pistolas com vários tipos de pulverizadores em configurações confocal ou face a face
UNIVEX 600 |
|
|---|---|
Tamanho da câmara |
Largura: 600 mm Profundidade: 600 mm Altura: 800 mm ou 550 mm (pulverizador) |
Evaporador térmico |
até 8 materiais |
Evaporador orgânico |
até 8 materiais |
Evaporação de feixe de elétron |
cavidades múltiplas e/ou cavidade única, operação de várias pistolas |
Pulverização catódica |
para cima ou para baixo: 4 X 3”, 3 X 4”, 6 X 2” ou outra |
Codeposição |
evaporação e/ou pulverização catódica |
Compatível com bloqueio de carga |
opcional |
Deposição assistida por íons |
opcional |
Câmara temperada com água |
sim |
Nível de vácuo |
médio 10-7 mbar |
Versão UHV |
opcional |
Compatível com salas limpas |
sim |
UNIVEX 900
O UNIVEX 900 é a solução mais sofisticada para substratos de médio a grande porte, respectivamente para maiores rendimentos de substrato. Podem ser revestidos substratos / suportes de substrato até um diâmetro geral de 800 mm. O controlador do sistema permite executar processos de revestimento manuais, semiautomáticos e totalmente automatizados.
Aplicações comuns
- Revestimentos ópticos
- Dispositivos optoeletrônicos
- RAM resistiva
- Supercondutores de alta temperatura
Configurações típicas
- Aquecedores de substrato e/ou arrefecedores
- Feixe de elétrons de cavidades múltiplas com fontes de íons para deposição de substrato pré-limpa e assistida por íons
- Configurações de substrato de paleta, cúpula ou planetário para amostras únicas, ou múltiplas
- Pistolas com vários tipos de pulverizadores em configurações confocal ou face a face
UNIVEX 900 |
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|---|---|
Tamanho da câmara |
Largura: 900 mm Profundidade: 900 mm Altura: 1100 mm |
Evaporador térmico |
até 8 materiais |
Evaporador orgânico |
até 8 materiais |
Evaporação de feixe de elétron |
cavidades múltiplas e/ou cavidade única, operação de várias pistolas |
Pulverização catódica |
opcional |
Codeposição |
sim |
Compatível com bloqueio de carga |
opcional |
Deposição assistida por íons |
opcional |
Câmara temperada com água |
sim |
Nível de vácuo |
médio 10-7 mbar |
Versão UHV |
opcional |
Compatível com salas limpas |
sim |
