Glove box UNIVEX G

Carregamento e revestimento de substratos sensíveis à umidade e ao oxigênio sob um ambiente inerte

Nosso sistema glovebox padrão permite o carregamento e o revestimento de substratos sensíveis à umidade e oxigênio sob o ambiente inerte de um glovebox.

Os sistemas UNIVEX G têm uma porta deslizante dianteira para conexão com o glove box. Essa porta deslizante permite ao operador um acesso fácil à câmara de processo através do glove box. Caso o acesso direto seja necessário, o UNIVEX G terá uma segunda porta na parte traseira.

Aplicações comuns

Metalização de contato (evaporação de ouro, prata, cromo, níquel, titânio, etc.)
Biosensores/dispositivos médicos
Componentes eletrônicos orgânicos: OLED, fotovoltaicos orgânicos
Pontos quânticos/display
Evaporadores de feixe de elétrons e orgânicos para formação de perovskite inorgânica-orgânica

Acesso direto e fácil ao equipamento de processo através da porta deslizante lateral dianteira

Acesso de serviço conveniente pela porta articulada traseira

Integração de quaisquer componentes do processo

UNIVEX G 250
UNIVEX G 350
UNIVEX G 450

UNIVEX G 250

A UNIVEX G 250 é uma solução conveniente e econômica para tarefas de revestimento que exigem pouco espaço.

Podem ser processados substratos, respectivamente suportes de substrato que possuem um diâmetro total máximo de até 220 mm.

	G 250
Chamber size	Width 270 mm Depth 370 mm Height 400 mm
Thermal evaporator	up to 4 materials
Organic evaporator	up to 4 materials
E-beam evaporation	multi-pocket or single pocket
Sputtering	up or down, 2 x 2"
Co-Deposition	evaporation and/or sputtering
Load lock compatible	optional
Vacuum level	mid 10^-7 mbar
Cleanroom compatible	yes

UNIVEX G 350

O UNIVEX G 350 combina um design compacto com muito espaço na câmara.

Para muitas tarefas de revestimento, o UNIVEX G 350 oferece condições ideais de espaço e acesso conveniente aos componentes do processo e processamento de substrato.

Podem ser processados substratos, respectivamente suportes de substrato que possuem um diâmetro total máximo de até 300 mm.

	G 350
chamber size	Width: 370 mm Depth: 390 mm Height: 500 mm
thermal evaporator	up to 8 materials
organic evaporator	Up to 4 materials
e-beam evaporation	Multi-pocket and/or single pocket
sputtering	Up or down: 3 X 2” guns, or 2 X 3” guns
Co-Deposition	Evaporation and/or sputtering
load lock compatible	optional
Ion assisted deposition	optional
vacuum level	mid 10^-7 mbar
cleanroom compatible	yes

UNIVEX G 450

Devido às dimensões da câmara, o UNIVEX G 450 é adequado para todas as tarefas de revestimento que exigem muito espaço. Podem ser processados substratos, respectivamente suportes de substrato até um diâmetro total de aproximadamente 400 mm. Com uma altura de 650 mm, a câmara de vácuo também é adequada para aplicações de levantamento.

	G 450
chamber size	Width: 500 mm Depth: 500 mm Height: 650 mm
thermal evaporator	Up to 8 materials
organic evaporator	Up to 8 materials
e-beam evaporation	Multi-pocket and/or single pocket
sputtering	Up or down: 3 X 3”, 2 X 4”, 4 X 2” or other
Co-Deposition	Evaporation and/or sputtering
load lock compatible	optional
Ion assisted deposition	optional
vacuum level	mid 10^-7 mbar
cleanroom compatible	yes

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