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Etapa de sustrato TWISTER

Investigación y desarrollo más sencillos

La etapa de substrato TWISTER™ fabricada en su totalidad en la propia empresa supone el siguiente paso para integrar tecnología innovadora, robusta y confiable en su sistema UNIVEX o en cualquier otra cámara de recubrimiento que ya esté utilizando.

Soluciones a medida para aplicaciones específicas

Con el fin de garantizar un proceso de recubrimiento satisfactorio y reproducible, hemos desarrollado una etapa de sustrato calefactable y giratoria que permite obtener una gran homogeneidad y calidad de recubrimiento.

Para satisfacer sus diferentes necesidades, ofrecemos un sistema modular que consta de tres versiones principales:

  • Básico
  • Avanzado
  • Full-Feature

De las que podemos obtener 576 posibles variantes.

Sistema modular

Basado en su principio modular, la etapa de sustrato TWISTER™ es un dispositivo actualizable típico que solo requiere abrazaderas neumáticas adicionales en caso de que se agregue un bloqueo de carga. Si se necesita refrigeración, simplemente hay que cambiar la placa de calentamiento por una placa combinada de calentamiento y refrigeración.

Manipulación precisa para obtener resultados exactos

  • Películas finas uniformes y homogéneas gracias a la rotación precisa del sustrato
  • Desplazamiento en Z opcional para ajustar la distancia del sustrato a las fuentes de recubrimiento y para las transferencias de bloqueo de carga
  • Flexibilidad de las placas de sustrato con diámetros de hasta 6 pulgadas
  • Mejora de la calidad de la capa calentando hasta 400 °C
  • Refrigeración por agua opcional:
    • Protege sustratos sensibles como láminas y materiales OLED
    • Enfriamiento y procesamiento posterior más rápidos
  • Protección del recubrimiento fácilmente intercambiable para su limpieza
  • Control de posición incluido
  • Posible actualización de la mayoría de los dispositivos de recubrimiento de laboratorio existentes
TWISTER - substrate stage for vacuum coating systems
Documentos
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