Kotak sarung tangan UNIVEX G
Memuat dan melapisi substrat yang sensitif terhadap kelembapan dan oksigen di bawah persekitaran inert
Sistem kotak sarung tangan standard kami membolehkan pemuatan dan pelapisan substrat yang sensitif terhadap kelembapan dan oksigen di bawah persekitaran inert kotak sarung tangan.
Sistem UNIVEX G mempunyai pintu gelongsor depan untuk sambungan ke kotak sarung tangan. Pintu gelongsor ini membolehkan pengendali mengakses ruang proses dengan mudah melalui kotak sarung. Sekiranya akses langsung diperlukan, UNIVEX G mempunyai pintu kedua di belakang.
Aplikasi biasa
- Metalisasi kontak (penyejatan emas, perak, kromium, nikel, titanium, dll.)
- Biosensor / peranti perubatan
- Elektronik organik: OLED, fotovoltaik organik
- Titikan kuantum / paparan
- E-beam dan penguap organik untuk pembentukan perovskit anorganik-organik
- UNIVEX G 250
- UNIVEX G 350
- UNIVEX G 450
UNIVEX G 250
UNIVEX G 250
UNIVEX G 250 adalah penyelesaian yang mudah dan kos efektif untuk tugas pelapisan yang memerlukan ruang yang tidak banyak.
Substrat, masing-masing pemegang substrat dengan diameter keseluruhan kira-kira 220 mm boleh diproses.
G 250 |
|
|---|---|
Saiz ruang |
Lebar 270 mm Kedalaman 370 mm Tinggi 400 mm |
Evaporator terma |
sehingga 4 bahan |
Evaporator organik |
sehingga 4 bahan |
Penguapan e-beam |
poket pelbagai atau poket tunggal |
Berkedut |
naik atau turun, 2 x 2" |
Ko-Pendapan |
penyejatan dan/atau penyemburan |
Kompak kunci muatan |
pilihan |
Tahap vakum |
mid 10-7 mbar |
Serasi dengan bilik bersih |
ya |
UNIVEX G 350
UNIVEX G 350
UNIVEX G 350 menggabungkan reka bentuk yang padat dengan ruang bilik yang luas.
Untuk banyak tugas pelapisan, UNIVEX G 350 menawarkan keadaan ruang yang optimum dan akses yang mudah kepada komponen proses dan pemprosesan substrat.
Substrat, masing-masing pemegang substrat dengan diameter keseluruhan kira-kira 300 mm boleh diproses.
G 350 |
|
|---|---|
saiz bilik |
Lebar: 370 mm Kedalaman: 390 mm Tinggi: 500 mm |
evaporator terma |
sehingga 8 bahan |
evaporator organik |
Sehingga 4 bahan |
penyejatan e-beam |
Pelbagai poket dan/atau satu poket |
berdesing |
Naik atau turun: 3 X 2” meriam, atau 2 X 3” meriam |
Ko-Pendapan |
Penguapan dan/atau penyemburan |
kunci muatan yang serasi |
pilihan |
Deposisi dibantu ion |
pilihan |
tahap vakum |
mid 10-7 mbar |
serasi dengan bilik bersih |
ya |
UNIVEX G 450
UNIVEX G 450
Disebabkan oleh dimensi ruangnya, UNIVEX G 450 sesuai untuk semua tugas pelapisan yang memerlukan banyak ruang. Substrat, masing-masing pemegang substrat dengan diameter keseluruhan melebihi 400 mm boleh diproses. Dengan ketinggian 650 mm, ruang vakum ini juga sesuai untuk aplikasi lepas landas.
G 450 |
|
|---|---|
saiz bilik |
Lebar: 500 mm Kedalaman: 500 mm Tinggi: 650 mm |
evaporator terma |
Sehingga 8 bahan |
evaporator organik |
Sehingga 8 bahan |
penyejatan e-beam |
Pelbagai poket dan/atau satu poket |
berdesing |
Naik atau turun: 3 X 3”, 2 X 4”, 4 X 2” atau lain-lain |
Ko-Pendapan |
Penguapan dan/atau penyemburan |
kunci muatan yang serasi |
pilihan |
Deposisi dibantu ion |
pilihan |
tahap vakum |
mid 10-7 mbar |
serasi dengan bilik bersih |
ya |
UNIVEX G 250
UNIVEX G 250 adalah penyelesaian yang mudah dan kos efektif untuk tugas pelapisan yang memerlukan ruang yang tidak banyak.
Substrat, masing-masing pemegang substrat dengan diameter keseluruhan kira-kira 220 mm boleh diproses.
G 250 |
|
|---|---|
Saiz ruang |
Lebar 270 mm Kedalaman 370 mm Tinggi 400 mm |
Evaporator terma |
sehingga 4 bahan |
Evaporator organik |
sehingga 4 bahan |
Penguapan e-beam |
poket pelbagai atau poket tunggal |
Berkedut |
naik atau turun, 2 x 2" |
Ko-Pendapan |
penyejatan dan/atau penyemburan |
Kompak kunci muatan |
pilihan |
Tahap vakum |
mid 10-7 mbar |
Serasi dengan bilik bersih |
ya |
UNIVEX G 350
UNIVEX G 350 menggabungkan reka bentuk yang padat dengan ruang bilik yang luas.
Untuk banyak tugas pelapisan, UNIVEX G 350 menawarkan keadaan ruang yang optimum dan akses yang mudah kepada komponen proses dan pemprosesan substrat.
Substrat, masing-masing pemegang substrat dengan diameter keseluruhan kira-kira 300 mm boleh diproses.
G 350 |
|
|---|---|
saiz bilik |
Lebar: 370 mm Kedalaman: 390 mm Tinggi: 500 mm |
evaporator terma |
sehingga 8 bahan |
evaporator organik |
Sehingga 4 bahan |
penyejatan e-beam |
Pelbagai poket dan/atau satu poket |
berdesing |
Naik atau turun: 3 X 2” meriam, atau 2 X 3” meriam |
Ko-Pendapan |
Penguapan dan/atau penyemburan |
kunci muatan yang serasi |
pilihan |
Deposisi dibantu ion |
pilihan |
tahap vakum |
mid 10-7 mbar |
serasi dengan bilik bersih |
ya |
UNIVEX G 450
Disebabkan oleh dimensi ruangnya, UNIVEX G 450 sesuai untuk semua tugas pelapisan yang memerlukan banyak ruang. Substrat, masing-masing pemegang substrat dengan diameter keseluruhan melebihi 400 mm boleh diproses. Dengan ketinggian 650 mm, ruang vakum ini juga sesuai untuk aplikasi lepas landas.
G 450 |
|
|---|---|
saiz bilik |
Lebar: 500 mm Kedalaman: 500 mm Tinggi: 650 mm |
evaporator terma |
Sehingga 8 bahan |
evaporator organik |
Sehingga 8 bahan |
penyejatan e-beam |
Pelbagai poket dan/atau satu poket |
berdesing |
Naik atau turun: 3 X 3”, 2 X 4”, 4 X 2” atau lain-lain |
Ko-Pendapan |
Penguapan dan/atau penyemburan |
kunci muatan yang serasi |
pilihan |
Deposisi dibantu ion |
pilihan |
tahap vakum |
mid 10-7 mbar |
serasi dengan bilik bersih |
ya |
- Kedai Dalam Talian
- Dokumen