Máy phủ hộp Univex để đắp màng mỏng trong R&D và sản xuất nguyên mẫu Ngày 11 tháng 5 năm 2021

Dòng sản phẩm hệ thống phủ hộp của Leybold bao gồm các hệ thống phủ Univex 250, 350, 450, 600 và 900. Cấp độ đầu vào 250 có thể chấp nhận chất nền lên đến 220mm và cung cấp một giải pháp tiết kiệm chi phí cho thị trường R&D. Kích thước nhỏ gọn cho phép gắn buồng lên bàn nếu cần - lý tưởng cho môi trường phòng thí nghiệm. Ngoài ra, khoang có thể được cung cấp trong một khung độc lập.

Các thành viên lớn hơn của gia đình Univex cung cấp khả năng xử lý các chất nền lớn hơn, giúp chúng phù hợp với sản xuất nguyên mẫu. 900 là buồng lớn nhất trong phạm vi và có thể chứa chất nền lên đến 800mm. Dòng sản phẩm phủ hoàn chỉnh cung cấp cả quy trình đắp kim loại thủ công và có kiểm soát thông qua hệ thống PLC.

Hệ thống phủ Univex một buồng của Leybold cung cấp một số nguồn lắng đọng kết hợp với nguồn điện phù hợp. Các kỹ thuật lắp đặt bao gồm:

• Bình bay hơi nhiệt

• Vòi phun nước

• Bình bay hơi chùm tia điện 

Sự linh hoạt của thiết kế cho phép lắp đặt nhiều nguồn lắng đọng trong một buồng xử lý duy nhất.

Hệ thống chân không tương tự linh hoạt, cho phép hệ thống phủ được thiết kế riêng. Máy phủ Univex 250 thường được cung cấp kèm theo một Leybold Turbovaci 350i kết hợp với một bơm cánh quạt nhỏ như SV10. Tuy nhiên, có sẵn các tùy chọn khác bao gồm bơm chân không sơ bộ khô và bơm đông lạnh.

Lựa chọn kỹ thuật hàn đắp phụ thuộc vào ứng dụng và yêu cầu vật liệu cụ thể. 
Hệ thống bay hơi nhiệt là một phương pháp đơn giản, tiết kiệm chi phí để lắng đọng nhiều loại vật liệu. Tùy chọn nhiệt độ cao cho phép lắng đọng các kim loại nóng chảy thấp hơn thường được sử dụng cho các ứng dụng tiếp xúc điện. Một nguồn nhiệt độ thấp cũng được cung cấp để sản xuất các màng hữu cơ mỏng. 
 
Tùy chọn phún xạ cho phép lắng đọng các kim loại có điểm nóng chảy cao hơn mà không thể đạt được bằng kỹ thuật nhiệt. Các ion argon năng lượng cao được tạo ra trong plasma va chạm với vật liệu mục tiêu được phún xạ từ bề mặt và lắng đọng trên chất nền thử nghiệm.

Kỹ thuật phún xạ cung cấp độ đồng nhất của màng cao. Ngoài ra, các lớp phủ có mật độ cao hơn so với phương pháp nhiệt. Nó được sử dụng rộng rãi cho các thiết bị quang học.

Bình bay hơi chùm tia điện tử là một kỹ thuật nhiệt khác. Các electron năng lượng tác động lên vật liệu nguồn, dẫn đến sự bay hơi của kim loại có điểm nóng chảy cao không thể xảy ra với kỹ thuật nhiệt thuần túy kết hợp với sự tích tụ tăng so với kỹ thuật nhiệt.

Có thể lựa chọn nguồn lắng đọng để đáp ứng các yêu cầu cá nhân. 
Đối với các mẫu nhạy cảm với không khí, có thể thêm hộp đựng găng tay cho phiên bản 250. Có sẵn các khoang lớn hơn, cụ thể là 350 và 450, để phù hợp với các chất nền có đường kính lớn hơn.

Đối với các lớp phủ màng mỏng chính xác và lặp lại, Leybold cũng cung cấp giám sát độ dày màng bằng công nghệ tinh thể thạch anh. Chúng có thể theo dõi một loại màng duy nhất hoặc với việc bổ sung nhiều đầu đo lường lắng đọng màng liên tục. Cũng có thể tự động đắp màng bằng bộ điều khiển theo độ dày mong muốn - Lý tưởng cho các ứng dụng nguyên mẫu