Ứng dụng chân không siêu cao Điều kiện UHV: điều kiện tiên quyết cho các nghiên cứu phức tạp nhất tại các phòng thí nghiệm của chính phủ, học viện và ngành công nghiệp tư nhân.

Nhiều tổ chức này dựa vào chúng tôi cho các bơm chân không, dụng cụ và hệ thống chuyên dụng cao.

UHV là chế độ chân không được đặc trưng bởi áp suất thấp hơn khoảng 10 ⁻⁹ mbar (10 ^-7 Pa).

Điều kiện chân không siêu cao là cần thiết để giảm nhiễm bẩn bề mặt trong nhiều kỹ thuật phân tích bề mặt. Ví dụ: quang phổ điện tử tia X (XPS), quang phổ điện tử Auger (AES), quang phổ khối lượng ion thứ cấp (SIMS) hoặc kính hiển vi phát xạ trường (FEM).

Kỹ thuật tăng trưởng và chuẩn bị màng mỏng với các yêu cầu nghiêm ngặt về độ tinh khiết, chẳng hạn như épitaxy chùm tia phân tử (MBE) và lắng đọng lớp nguyên tử (ALD), cũng phụ thuộc vào điều kiện UHV.

Trong các ứng dụng nghiên cứu như máy tăng tốc hạt hoặc máy dò sóng trọng lực, điều kiện chân không siêu cao sẽ chủ yếu giúp giảm tương tác chùm tia-khí và hạn chế nhiễu loạn không mong muốn từ môi trường bên ngoài. Những mức chân không này đòi hỏi phải sử dụng các vật liệu và nguyên tắc bơm đặc biệt.

Chúng tôi cung cấp một loạt các giải pháp chân không tiên tiến để sử dụng trong các ứng dụng UHV đầy tham vọng. Các thành phần, giải pháp hệ thống và dịch vụ hậu mãi của chúng tôi đã chứng minh được lợi ích của chúng tại các trung tâm nghiên cứu lớn trên toàn thế giới.