Revestidores de cajas Univex para el recubrimiento de película fina en investigación y desarrollo y producción de prototipos 11 de mayo de 2021
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La capacidad de depositar películas finas de alta calidad, uniformes y coherentes es crucial para el desarrollo de nuevos dispositivos para muchos mercados. Algunos ejemplos son los sectores de la electrónica, los semiconductores, la óptica, las pantallas y la medicina.
¿Cómo podemos apoyar la deposición de película fina?
La familia de sistemas de recubrimiento de cajas de Leybold incluye los sistemas de recubrimiento Univex 250, 350, 450, 600 y 900. El nivel básico 250 puede aceptar sustratos de hasta 220 mm y ofrece una solución rentable para el mercado de investigación y desarrollo. Su tamaño reducido permite montar la cámara en un banco, si es necesario, lo que la hace ideal para entornos de laboratorio. Como alternativa, la cámara puede suministrarse dentro de un bastidor independiente.
Los miembros más grandes de la familia Univex ofrecen la posibilidad de manejar sustratos más grandes, lo que los hace aplicables a la producción de prototipos. La 900 es la cámara más grande de la gama y puede acomodar sustratos de hasta 800 mm. La gama completa de estucadoras ofrece procesos de deposición manuales y controlados a través de un sistema PLC.
Los sistemas de recubrimiento Univex de una cámara de Leybold ofrecen una serie de fuentes de deposición combinadas con la fuente de energía adecuada. Las técnicas de deposición comprenden:
Evaporación térmica
Pulverización
Evaporación por haz de electrones
La flexibilidad del diseño permite la posibilidad de instalar varias fuentes de sedimentación en una única cámara de proceso.
El sistema de vacío es igualmente flexible, lo que permite un sistema de recubrimiento a medida. La estucadora Univex 250 se suministra normalmente con una Leybold Turbovaci 350i combinada con una pequeña bomba de paletas rotativas como la SV10. Sin embargo, hay otras opciones disponibles, incluidas bombas de vacío previo secas y bombas criogénicas.
Bomba turbomolecular Leybold TURBOVAC 350i
La elección de la técnica de deposición depende de la aplicación y de los requisitos específicos del material.
El sistema de evaporación térmica es un enfoque sencillo y rentable para depositar una variedad de materiales. Una opción de alta temperatura permite la deposición de metales de fusión más baja que se emplean habitualmente para aplicaciones de contacto eléctrico. También se ofrece una fuente de baja temperatura para producir películas orgánicas finas.
La opción de pulverización catódica permite la deposición de metales con un punto de fusión más alto que no se puede lograr con técnicas térmicas. Los iones de argón de alta energía generados dentro de un plasma golpean el material objetivo que se pulveriza desde la superficie y se deposita en el sustrato de prueba.
La técnica de pulverización catódica proporciona un alto grado de uniformidad de la película. Además, se logran recubrimientos de mayor densidad en comparación con el enfoque térmico. Se utiliza ampliamente para dispositivos ópticos.
La evaporación por haz de electrones es otra técnica térmica. Los electrones energéticos inciden sobre el material de origen, lo que provoca la evaporación de metales con un punto de fusión alto que no es posible con la técnica puramente térmica combinada con una mayor deposición en comparación con la técnica térmica.
La elección o las opciones de fuentes de deposición se pueden seleccionar para satisfacer los requisitos individuales.
Para muestras sensibles al aire, es posible añadir una caja de guantes para la versión 250. Hay disponibles cámaras más grandes, a saber, 350 y 450, para acomodar sustratos de mayor diámetro.
Para recubrimientos de película fina precisos y repetibles, Leybold también ofrece monitorización del grosor de la película mediante la tecnología de cristal de cuarzo. Estos pueden supervisar un solo tipo de película o, con la adición de varios cabezales, la medición de depósitos de película secuenciales. También es posible depositar películas automáticamente con la elección del controlador al grosor deseado: ideal para aplicaciones de prototipos
Conclusión
- La familia Univex de sistemas de recubrimiento abarca tanto los requisitos de investigación y desarrollo como los de producción de prototipos
- La elección del tamaño de la cámara permite acomodar sustratos de 220 mm a 800 mm
- Hay disponible una amplia gama de opciones de bombeo
- Es posible añadir una caja de guantes para muestras sensibles al aire
- Se puede añadir un bloqueo de carga para aumentar el rendimiento
- El monitor de grosor de película ofrece recubrimientos precisos y repetibles
