เวทีซับสเตรต TWISTER การวิจัยและการพัฒนาที่ง่ายดาย

ขั้นตอนซับสเตรต TWISTER™ ที่ผลิตขึ้นภายในบริษัทเป็นขั้นตอนถัดไปในการผสานรวมเทคโนโลยีที่เป็นนวัตกรรม ทนทาน และเชื่อถือได้เข้ากับระบบ UNIVEX หรือห้องเคลือบผิวอื่นๆ ที่คุณอาจใช้งานอยู่แล้ว

โซลูชันที่ปรับให้เหมาะกับการใช้งานเฉพาะ

เพื่อให้แน่ใจถึงกระบวนการเคลือบผิวที่ประสบความสําเร็จและทําซ้ําได้ เราจึงได้พัฒนาขั้นตอนซับสเตรตที่สามารถหมุนได้และทําความร้อนได้ ซึ่งช่วยให้เกิดความเป็นเนื้อเดียวกันและคุณภาพการเคลือบผิวที่ดีเยี่ยม

เพื่อตอบสนองความต้องการที่แตกต่างกันของคุณ เรานําเสนอระบบแบบแยกส่วนที่ประกอบด้วยสามเวอร์ชันหลัก:

พื้นฐาน
ขั้นสูง
ความหลากหลาย

จากนั้นเราจะได้ 576 รุ่นที่เป็นไปได้!

ระบบโมดูลาร์

ตามหลักการแบบแยกส่วน แท่นรอง TWISTER™ เป็นอุปกรณ์ทั่วไปที่สามารถอัปเกรดได้ ซึ่งจําเป็นต้องใช้แคลมป์นิวแมติกเพิ่มเติมในกรณีที่เพิ่มระบบล็อกโหลดเท่านั้น หากจําเป็นต้องทําความเย็น เพียงเปลี่ยนแผ่นทําความร้อนด้วยแผ่นทําความร้อน + แผ่นทําความเย็นแบบผสม

การจัดการที่แม่นยําเพื่อผลลัพธ์ที่แม่นยํา

ฟิล์มบางที่สม่ําเสมอและเป็นเนื้อเดียวกันเนื่องจากการหมุนที่แม่นยําของซับสเตรต
ตัวเลือกการเลื่อนตําแหน่ง Z เพื่อปรับระยะห่างของซับสเตรตจากแหล่งเคลือบผิวและสําหรับการถ่ายโอนล็อกโหลด
ความยืดหยุ่นของแผ่นซับสเตรตที่มีเส้นผ่านศูนย์กลางสูงสุด 6 นิ้ว
คุณภาพชั้นที่ดีขึ้นด้วยการให้ความร้อนสูงถึง 400 °C
การระบายความร้อนด้วยน้ําเสริม:
- ปกป้องพื้นผิวที่ละเอียดอ่อน เช่น ฟอยล์และวัสดุ OLED
- การทําให้เย็นตัวลงและการแปรรูปภายหลังที่รวดเร็วขึ้น
โล่เคลือบที่ถอดเปลี่ยนได้ง่ายเพื่อการทําความสะอาด
มาพร้อมกับการควบคุมตําแหน่ง
สามารถอัปเกรดอุปกรณ์เคลือบผิวในห้องปฏิบัติการที่มีอยู่ส่วนใหญ่ได้